[实用新型]吹扫装置和具有它的等离子体增强化学气相沉积设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种吹扫装置和具有该清扫装置的等离子体增强化学气相沉积设备。

背景技术

随着等离子体(Plasma)技术的不断发展，等离子体装置已经被广泛地应用于制造集成电路(IC)或光伏(PV)产品的制造工艺中。而光伏产品制造过程中用到的平板式PECVD设备根据成膜方式的不同主要分为直接法和间接法两种，这两种设备都是通过平板式载板承放基片。直接法的载板接地，上电极接中频或者射频，在上电极和载板之间形成等离子体；间接法的载板不接地，只起到传输作用，电极板接高频或者微波，离子放电空间中就结合成减反膜并由扩散作用沉积在硅片表面上。

直接法成膜致密，可以实现表面钝化和体钝化，有利于提高少子寿命，所以短路电流一般比较高。但直接法为了载板接地，都是采用向上镀膜的方式，成膜表面朝上，在工艺过程中产生的颗粒，或长时间运行后上电极剥落的颗粒会掉落到成膜表面上，影响基片的外观和质量。

现有技术的缺点是，操作人员手持通有压缩空气的管子对没有基片的空载板进行吹扫，(此时没有基片的空载板位置不是固定的，有时在卸载台，有时在装载台)直至把载板上的颗粒吹干净为止，因此既浪费人力，又浪费时间。另外，吹扫方式也是不规则的左右吹扫，导致不能把颗粒完全吹落。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决上述技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种吹扫装置，该吹扫装置的结构简单、使用方便、清扫载板颗粒效果好、提高了基片的外观。

本实用新型的另一目的在于提出一种具有上述吹扫装置的等离子体增强化学气相沉积设备。

为实现上述目的，本实用新型第一方面提出的用于等离子体增强化学气相沉积设备的吹扫装置，包括：内管，所述内管的第一端敞开且所述内管的第二端封闭，所述内管的管壁上设有通孔；和外管，所述外管套设在所述内管外面以在所述外管与所述内管之间限定出环形空间，所述环形空间通过所述通孔与所述内管的内腔连通，所述环形空间的第一端和第二端封闭，所述外管的管壁上设有将所述环形空间与外界连通的分配孔。

根据本实用新型的用于等离子体增强化学气相沉积设备的吹扫装置，气体从内管的一端通入内管的内腔，内腔中的气体通过所述通孔进入所述环形空间，然后在环形空间中经过缓冲后的气体通过外管上的分配孔向外界吹送。环形空间缓冲气流压力，并起到均匀分配压缩空气的作用，因此，保证从分配孔吹向外界的气流更加平稳，提高吹扫效果。

另外，根据本实用新型的吹扫装置还可以具有如下附加的技术特征：

所述通孔为多个，所述多个通孔沿所述内管的轴向间隔分布。

所述通孔的开口方向与所述分配孔的开口方向之间的夹角α在90°＜α＜270°的范围内。

所述夹角α为180°。

所述内管与所述外管同轴。

所述分配孔为沿所述外管的轴向延伸的狭槽。

所述狭槽为矩形。

所述吹扫装置还包括第一密封件和第二密封件，所述第一密封件连接在所述内管和所述外管的第一端以密封所述环形空间的第一端，所述第二密封件连接在所述内管和所述外管的第二端以密封所述内管的第二端和所述环形空间的第二端。

所述第一和第二密封件与所述内管和所述外管分别螺纹连接。

本实用新型第二方面提出的等离子体增强化学气相沉积设备，包括：依次设置的装载台，预热腔、工艺腔、冷却腔和卸载台；返回装置，所述返回装置设置在所述卸载台与所述装载台之间以将所述卸载台上的载板输送到所述装载台上；吹扫装置，所述吹扫装置为根据本实用新型第一方面所述的吹扫装置，所述吹扫装置设在所述返回装置的支架上且位于所述返回装置上方用于吹扫所述返回装置上的所述载板；和气源，所述气源与所述吹扫装置的所述内管的第一端相连。

根据本实用新型的等离子体增强化学气相沉积设备，通过吹扫装置向载板吹送气体以清理载板表面的颗粒，保证载板所运载的基片外观不受颗粒影响，提高基片质量。另外，吹扫装置设置在载板从卸载台返回装载台的过程中，保证设备正常运行，提高设备使用率。

另外，根据本实用新型的等离子体增强化学气相沉积设备还可以具有如下附加的技术特征：

所述吹扫装置邻近所述装载台。

所述吹扫装置可旋转地设置在所述返回装置的支架上。

所述吹扫装置的所述外管上的分配孔的开口方向与所述返回装置的上表面之间的夹角β为锐角。

根据本实用新型的等离子体增强化学气相沉积设备还包括设置在所述气源与所述内管之间的电磁阀。