[实用新型]晶圆检测系统有效
申请号: | 201120197365.X | 申请日: | 2011-06-13 |
公开(公告)号: | CN202134518U | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 谢宏亮;许明棋;冯传彰;沈信民 | 申请(专利权)人: | 辛耘企业股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人: | 陈波;文琦 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 检测 系统 | ||
1.一种晶圆检测系统,用于至少一个晶圆在一反应槽内与一流体进行一反应时的晶圆数量检查,其特征在于,所述晶圆检测系统包括:
一晶圆承载装置,用以装载所述晶圆;
一升降装置,与所述晶圆承载装置连接,用以控制所述晶圆承载装置垂直进出所述反应槽的一槽口,其中所述晶圆承载装置的位置被所述升降装置控制在一槽外位置及一槽内位置;
一光源装置,设置于所述反应槽上方,用以对位于所述槽外位置的所述晶圆提供一光源;
一影像撷取装置,设置于所述反应槽上方,用以对位于所述槽外位置的所述晶圆撷取一第一影像及一第二影像,其中所述第一影像为所述晶圆反应前,位于所述槽外位置的所述晶圆承载装置上的所述晶圆的边缘影像,而所述第二影像为所述晶圆反应后,位于所述槽外位置的所述晶圆承载装置上的所述晶圆的边缘影像;以及
一主机,与所述影像撷取装置电性连接,用以储存并处理所述第一影像及所述第二影像,并依据所述第一影像与所述第二影像分析所述晶圆的一数量。
2.如权利要求1所述的晶圆检测系统,其特征在于,所述光源装置包括红外线光源及雷射光源。
3.如权利要求1所述的晶圆检测系统,其特征在于,以所述晶圆承载装置正上方为一中心轴,所述光源装置的位置以所述中心轴为中心倾斜一第一夹角。
4.如权利要求1所述的晶圆检测系统,其特征在于,所述影像撷取装置为一光电耦合组件或互补式金属氧化物半导体传感器。
5.如权利要求1所述的晶圆检测系统,其特征在于,以所述晶圆承载装置正上方为一中心轴,所述影像撷取装置的位置以所述中心轴为中心倾斜一第二夹角。
6.如权利要求1所述的晶圆检测系统,其特征在于,所述影像撷取装置对所述晶圆撷取全幅影像或部分影像。
7.如权利要求1所述的晶圆检测系统,其特征在于,所述影像撷取装置还包含对位于所述槽外位置的所述晶圆承载装置撷取一第一承载装置影像及一第二承载装置影像,其中所述主机含有一控制模块,所述控制模块用以控制所述影像撷取装置在所述晶圆反应前用以分别对位于槽外位置且未设置晶圆的所述晶圆承载装置撷取所述第一承载装置影像;对位于所述槽外位置且已卸除晶圆的所述晶圆承载装置撷取所述第二承载装置影像;及所述主机依据所述第一承载装置影像与所述第二承载装置影像分析所述晶圆的一完整状态。
8.如权利要求7所述的晶圆检测系统,其特征在于,所述主机具有一影像处理模块,该影像处理模块用以比较影像处理后的所述第一影像及所述第二影像以输出所述数量;及所述影像处理模块用以比对影像处理后的所述第一承载装置影像和所述第二承载装置影像以分析所述晶圆的所述完整状态。
9.如权利要求7所述的晶圆检测系统,其特征在于,所述主机具有一数据库模块用以储存经由人工智能模式建模、训练与测试所得到的一验证影像集合,所述验证影像集合用以与所述第二影像比对以输出所述数量;及所述数据库模块用以储存经由人工智能模式建模、训练与测试所得到的一承载装置验证影像集合,所述承载装置验证影像集合用以与所述第二承载装置影像比对以分析所述晶圆的所述完整状态。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造