[实用新型]一种耳机扬声器有效

专利信息
申请号: 201120205614.5 申请日: 2011-06-17
公开(公告)号: CN202095067U 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: 陈奚平 申请(专利权)人: 陈奚平
主分类号: H04R1/10 分类号: H04R1/10
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 刘凯
地址: 610000 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 耳机 扬声器
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种扬声器,特别涉及一种能根据实际使用情况调节声压的耳机扬声器。

背景技术

现有的耳塞机或耳机的内部都装有一个扬声器,该扬声器内置的振动膜片在线圈的作用下通过振动空气来发声。在现有的扬声器结构中,线圈安装在磁轭的凹槽内,当线圈通过电流时即在磁场的作用下产生电动力推动音膜产生振动,为了保持灵敏度线圈通常处于磁轭中磁场最强的位置,当在大音量工作时,将会产生过高的声压,对使用者的听力造成损伤。为了克服上述问题,通常会采用增加损耗的办法以降低其产生的电动力,如在线圈回路中串入电阻、或采用磁性相对较弱的材料以实现降低声压,保护使用者听力的目的。虽然其能够达到降低声压的目的,但是通常这些改变对于耳机扬声器的音质影响较大,只能满足低档次产品的需求。如想达到对音质的影响最小而产生的声压又能达到要求时,则对所用材料的匹配性能要求会很高,即对磁性材料的一致性和磁场强度的匹配性都提出了较高的要求,在实际的生产过程中将很难做到。

实用新型内容

本实用新型的实用新型目的在于:针对上述存在的问题,提供一种能够根据实际使用材料的情况,在现有扬声器的基础上,通过调整线圈与磁轭相互对应位置来完成降低声压的耳机扬声器。

本实用新型的技术方案是这样实现的:一种耳机扬声器,包括底座和音膜组合体,音膜组合体设置于底座的上方,在所述底座上设置有凹槽结构的磁轭,在所述磁轭内设置有磁体,所述磁体周边与磁轭内壁之间形成环形凹槽,所述音膜组合体包括振动膜片以及设置在振动膜片上的线圈,其特征在于:所述磁轭与底座的相对安装位置可调节,其以磁轭上表面为基准,使所述线圈的下端面相对于磁轭的上表面在负0.2mm~2.0mm范围内调节移动。

本实用新型通过改变现有线圈与磁轭之间对应的位置,根据实际情况使线圈处于不同的磁场范围中,以实现降低声压的目的。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图中标记:1为底座,2为磁轭,3为磁体,4为环形凹槽,5为振动膜片,6为线圈。

具体实施方式

下面结合附图,对本实用新型作详细的说明。

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

实施例1:如图1和2所示,一种耳机扬声器,包括底座1和音膜组合体,音膜组合体设置于底座1上,在所述底座1上设置有凹槽结构的磁轭2,在所述磁轭2内设置有磁体3,所述磁体3周边与磁轭2内壁之间形成环形凹槽4,所述音膜组合体包括振动膜片5以及设置在振动膜片5上的线圈6,所述振动膜片5的周边放置于底座1内的台阶处,所述磁轭2与底座1的相对安装位置可根据实际情况进行调整,其以磁轭2上表面为基准,通过调整磁轭2与底座1的相对位置,使所述线圈6的下端面相对于磁轭2的上表面在负0.2mm位置,即线圈有0.2mm的部分置于磁体与磁轭形成的环形凹槽中,此时线圈在该磁场下振动空气来发声。

实施例2:以磁轭2上表面为基准,通过调整磁轭2与底座1的相对位置,使所述线圈6的下端面相对于磁轭2的上表面在0mm位置,即线圈的下端面与磁轭的上表面在同一水平面上,此时线圈在该磁场下振动空气来发声。

实施例3:以磁轭2上表面为基准,通过调整磁轭2与底座1的相对位置,使所述线圈6的下端面相对于磁轭2的上表面相距2mm位置,此时线圈在该磁场下振动空气来发声。

在安装过程中,根据实际情况,通过仪器测试,以磁轭上表面为基准,通过调整磁轭2与底座1的相对位置,使线圈与磁轭的对应位置在一定范围内进行调整,从而实现降低声压的目的。该技术方案在不改变现有结构的前提下,仅通过改变现有结构中线圈与磁轭的相对位置关系,以达到降低声压的目的,其操作方式简单,实用。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陈奚平,未经陈奚平许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120205614.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top