[实用新型]衬底处理设备有效
申请号: | 201120207153.5 | 申请日: | 2011-06-20 |
公开(公告)号: | CN202116643U | 公开(公告)日: | 2012-01-18 |
发明(设计)人: | 户高良二;李一成;赵函一 | 申请(专利权)人: | 理想能源设备(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衬底 处理 设备 | ||
1.一种衬底处理设备,其包括处理腔(31)和直线运动装置;
所述处理腔(31)具有开孔(37);所述直线运动装置包括驱动杆(33)和波纹管(35);
所述驱动杆(33)穿过所述处理腔(31)上的开孔(37)并延伸到所述处理腔(31)外,所述驱动杆(33)能够沿其轴线方向做直线运动并在所述衬底处理设备处理衬底时处于第一位置;
所述波纹管(35)的一端密封连接所述处理腔(31)的开孔(37)周围的处理腔外壁,另一端密封连接位于所述处理腔(31)外的所述驱动杆(33);
其特征在于,
所述衬底处理设备还包含密封机构(36),所述密封机构(36)包括设置在位于所述处理腔(31)内部的驱动杆(33)上的密封板(361),所述密封板(361)在所述驱动杆(33)处于第一位置时,密封所述开孔(37)。
2.如权利要求1所述衬底处理设备,其特征在于,所述密封机构(36)还包括密封垫圈(362),所述密封垫圈(362)设置在所述处理腔(31)上的所述开孔(37)周围的处理腔内壁上;在所述驱动杆(33)处于第一位置时,所述密封板(361)压紧所述密封垫圈(362)。
3.如权利要求1或 2所述衬底处理设备,其特征在于,所述密封板(361)上设置有至少一圈环状凸起结构(363),所述环状突起结构(363)设置在所述密封板(361)面向所述开孔(37)的一侧面上,所述处理腔(31)上的开孔(37)周围的处理腔内壁上对应设置有至少一圈环状凹陷结构(364);在所述驱动杆(33)处于第一位置时,所述环状凸起结构(363)与所述环状凹陷结构(364)相对应匹配形成密封。
4.如权利要求1所述衬底处理设备,其特征在于,所述密封板(361)包括一固定在所述驱动杆(33)上的支撑板(365),一密封片(367),以及多个弹性元件(366);所述密封片(367)设置在所述支撑板(365)面向所述处理腔(31)上的开孔(37)的一侧,所述多个弹性元件(366)设置在所述支撑板(365)和所述密封片(367)之间、并连接所述支撑板(365)和所述密封片(367)。
5.如权利要求4所述衬底处理设备,其特征在于,所述弹性元件(366)为U型弹簧。
6.如权利要求4或5所述衬底处理设备,其特征在于,所述密封片(367)的厚度≤1mm。
7.如权利要求6所述衬底处理设备,其特征在于,所述密封片(367)的厚度≤0.5mm。
8.如权利要求1所述衬底处理设备,其特征在于,所述衬底处理设备还包括设置在所述处理腔内的传输辊子(331),所述传输辊子(331)与所述驱动杆(33)位于所述处理腔内部分的一端连接,所述驱动杆(33)能够驱动所述传输辊子(331)转动。
9.如权利要求1所述衬底处理设备,其特征在于,所述衬底处理设备还包括多根顶针(332),所述驱动杆(33)连接所述多根顶针(332)并驱动所述多根顶针(332)运动。
10.如权利要求1所述衬底处理设备,其特征在于,该衬底处理设备为化学气相沉积设备,所述处理腔(31)为化学气相沉积腔。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的