[实用新型]一种多室连续真空镀膜装置有效

专利信息
申请号: 201120216053.9 申请日: 2011-06-24
公开(公告)号: CN202124659U 公开(公告)日: 2012-01-25
发明(设计)人: 刘晓波;翟玉涛;王珂;李绪波;文磊 申请(专利权)人: 核工业西南物理研究院
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/34
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 高尚梅
地址: 610041 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 连续 真空镀膜 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种真空镀膜装置,特别是涉及一种含有气室隔离墙,能够用于多室连续真空镀膜装置。

背景技术

目前,溅射技术是真空镀膜的主要方式,现有技术中,涉及多次溅射的,一般采用非连续式分次溅射,中间需要运转和贮存环节。中间环节不仅令制造成本提高,被镀基材还容易在中间环节被氧化或污染,直接影响镀膜品质。现有的真空溅射装置,无法实现连续式作业,尤其是多层薄膜的制备,如果采用一次镀一层薄膜的方法时,既浪费时间又浪费人力物力,生产效率低;另外,不同溅射室的工作气体和真空度有所不同,连续作业会导致工作气体的混同,无法镀膜。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是在大真空镀膜室中设置一种气室隔离墙,配合真空抽气系统将大真空室分割成若干个气氛独立的小真空镀膜室,实现真空环境下的连续多层镀膜。

为解决上述技术问题,本实用新型一种多室连续真空镀膜装置,包括一个大真空室、与所述大真空室相连的真空泵,以及位于所述大真空室中的被镀基材;大真空室两端之间密封设置有若干个气室隔离墙,气室隔离墙的底部与大真空室内壁固定;当进行真空镀膜时,基材与所述气室隔离墙的保持0.1~1mm的间隙,任意相邻的气体隔离墙之间形成小真空镀膜室,每个小真空镀膜室都与至少一台真空泵相连。

气室隔离墙采用中空结构,在其顶部均匀分布若干个大小一致与隔离墙中空结构联通的的圆形透孔,气室隔离墙底部设置一个与隔离墙中空结构联通的圆形透孔,在气室隔离墙两侧壁面以“S”形结构布置布置循环冷却水管路。

当对柔性基材进行真空镀膜时候,所述大真空室为圆柱形真空室,所述气室隔离墙呈梯形体。所述大真空室内部设置一个冷鼓,冷鼓与梯形气室隔离墙顶部之间卷绕柔性基材。

当对硬质基材进行真空镀膜时候,所述大真空室为矩形真空室,所述气室隔离墙呈矩形。所述大真空室顶部与矩形气室隔离墙顶部铺设硬质基材。

本实用新型中大的真空室由气室隔离墙不完全密闭式地分割成若干小的真空室,从而形成若干独立的小真空镀膜室;并且可以配合真空抽气泵,可以达到小真空镀膜室之间气氛互不影响,保证小真空镀膜室之间较好的气氛隔离,对不同反应磁控溅射多层膜的制备提供了便利;并且该气室隔离墙采用中空结构,可以节省钢材,减轻真空室重量;在该气室隔离墙顶部预留多个圆孔,以备真空抽气所用,可以减少抽真空的时间,提高效率;同时在墙的两侧壁面设置的循环水管路,可以降低镀膜室温度,防止温度过高造成被镀基材变形或烧蚀。

本实用新型是一种不完全密闭真空室之间的隔离墙。结构简单,制造方便,经济实用,可广泛工业应用;对真空镀膜,尤其是连续多层镀膜,以及连续镀制多层不同薄膜的反应溅射,不需要镀完一层膜后从真空室中取出,更换镀膜材料再重新抽真空,再在第一层薄膜上镀制第二层不同材料的薄膜;本实用新型可以避免这些重复性的镀膜前期步骤,尤其是重新抽真空和清洁真空室这些重复而又浪费时间能源的步骤。

附图说明

图1为本实用新型的一种多室连续真空镀膜装置的截面图。

图2为图1所示中多室连续真空镀膜装置中的梯形隔离墙的侧视图。

图3为梯形气室隔离墙的俯视图。

图4为梯形隔离墙冷却水进口一侧壁面的水循环管路布置图。

图5为本实用新型的另一种多室连续真空镀膜装置横截面图。

图中,1为圆形大真空室,2为冷鼓,3为被镀基材,4为真空泵,5为梯形气室隔离墙,6为小真空镀膜室,7为收卷装置,8为放卷装置,9为张力辊,10为隔离墙顶部圆孔,11为隔离墙壁面,12为隔离墙壁面循环冷却水管路进水口,13为隔离墙壁面循环冷却水管路出水口,14为隔离墙壁面循环冷却水管路顶部水平管路,15为矩形气室隔离墙,16为料传送辊,。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的实施方式作进一步说明。

实施例1

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