[实用新型]改进的足弓垫结构有效
申请号: | 201120220083.7 | 申请日: | 2011-06-27 |
公开(公告)号: | CN202154141U | 公开(公告)日: | 2012-03-07 |
发明(设计)人: | 王姝棋 | 申请(专利权)人: | 家茂国际事业有限公司 |
主分类号: | A43B17/10 | 分类号: | A43B17/10;A43B17/08 |
代理公司: | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人: | 高凤荣 |
地址: | 中国台湾台中市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改进 足弓 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种设于鞋子底部的足弓垫,足弓垫可置入鞋子供穿戴时可调节鞋子内部的足用制剂的技术,特别涉及一种改进的足弓垫结构。
背景技术
首先,请参阅图1所示,【为现有的足弓垫示意图】;其中,是指一设于凉鞋10内底部101中段向上弧凸有一足弓部102,足弓部102恰巧可抵接脚部A0的弓部A01,由足弓部102减轻弓部A01于行走时的压力。
但是,足弓部102除此减轻弓部A01行走压力的使用目的外,就无其它功效,实是可惜,也令凉鞋10的足弓部102设计未能普及至其它鞋类,以及有使用范围限缩疑虑。
鉴于以上所述,得知现有足弓垫有普及率不足缺点,促使本创作人朝弭除现有缺点方向研发,并经由本创作人多方思考,遂而思及,将足弓垫置入足用制剂方式是为最佳。
实用新型内容
本实用新型所要解决的主要技术问题在于,克服现有技术存在的上述缺陷,而提供一种改进的足弓垫结构,其在足弓垫内有足用制剂的配置,由足用制剂使用令鞋子供穿戴时可兼具有调节效益。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种改进的足弓垫结构,该足弓垫是设于鞋子底部,且足弓垫分布有上、下贯穿的透气孔,并足弓垫中段向上弧凸有一足弓部,其中,足弓部下方形成有容室,容室内可置入足用制剂,而后足弓部下方恰好设有将足用制剂定位于容室范围的下盖,下盖可增设有上、下贯穿的下盖透孔。又足弓垫上方可贴设有软垫。
另外,该容室前、后侧又上凹有嵌接下盖前、后段的面凹部。而容室左、右侧可增设有上凹的嵌接槽,而下盖另可设有插接嵌接槽的肋部。
本实用新型的有益效果是,本实用新型在足弓垫内有足用制剂的配置,由足用制剂使用令鞋子供穿戴时可兼具有调节效益,进而可提升健身用品市场竞争力。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1为现有的足弓垫示意图。
图2为本实用新型的足弓垫组合与使用状态图。
图3为本实用新型的足弓垫立体示意图。
图中标号说明:
A0脚部 A01弓部
10凉鞋 101底部
102足弓部
A脚部 A1弓部
1足弓垫 11透气孔
12足弓部 13容室
14面凹部 15嵌接槽
2鞋子 21底部
3足用制剂 4下盖
41下盖透孔 42肋部
5软垫
具体实施方式
请参阅图2所示,【为本实用新型的足弓垫组合含使用状态图】;是指一种「改进的足弓垫结构」,该足弓垫1设于鞋子2底部21,且足弓垫1分布有上、下贯穿的透气孔11,并足弓垫1中段向上弧凸有一足弓部12,足弓部12恰巧可抵接脚部A的弓部A1,由足弓部12减轻弓部A1于行走时的压力,其中,足弓部12下方至少形成有一容室13,容室13内可置入足用制剂3,而后,足弓部12下方恰好设有将足用制剂3定位于容室13范围的下盖4,下盖4可增设有上、下贯穿的下盖透孔41。另外,足弓垫1上方又可贴设有一软垫5。
但是,足用制剂3另可为:芳香剂、除臭剂、除菌剂、抑菌剂及干燥剂。而足用制剂3若以芳香剂或除臭剂为实施依据,旨在中和脚部A于穿戴鞋子2所产生的异味,例如:霉味、香港脚臭及脚汗臭。而足用制剂3若以除菌剂、抑菌剂为实施依据,旨在消弭或抑制脚部A穿戴鞋子2所产生的细菌或病毒。而足用制剂3若以干燥剂为实施依据,则旨在吸收脚部A于穿戴鞋子2所产生的汗渍,用以保持鞋子2内部的干燥。
请参阅图3所示,【为本实用新型的足弓垫立体示意图】;其中,该足弓垫1为稳定足用制剂3的定位,故于足弓垫1于容室13前、后侧又上凹有嵌接下盖4前、后段的面凹部14。且容室13左、右侧可增设有上凹的嵌接槽15,而下盖4另可设有插接嵌接槽15的肋部42。
是之,足用制剂3的配置,令鞋子2供穿戴时可兼具有内部调节效益,其调节效益可有:中和异味、消弭或抑制细菌及病毒、以及吸收脚部A的汗渍,令足弓垫1实施可具体扩大使用普及范围,以及摒除有现有普及率不足缺点。
以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
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