[实用新型]一种湿刻机水洗槽喷杆有效
| 申请号： | 201120225686.6 | 申请日： | 2011-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN202268332U | 公开（公告）日： | 2012-06-06 |
| 发明（设计）人： | 仇文政 | 申请（专利权）人： | 彩虹（佛山）平板显示有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;B08B3/02 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 杨晔 |
| 地址： | 528000 广东省佛*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 湿刻机 水洗 槽喷杆 | ||
技术领域
本实用新型涉及0LED领域使用的湿刻机的零部件，具体特别涉及一种湿刻机水洗槽喷杆。
背景技术
目前用于制造液晶及OLED面板湿刻机水洗槽喷杆，采用比较广泛的工艺是设置的喷杆方向与基板运行方向互相垂直，在湿刻机大部分改为倾斜搬送基板后，因为下部水洗置换相对上部充分而造成水洗不均匀，使得基板在生产过程中出现水洗不匀不良。
发明内容
发明目的
为了克服上述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种湿刻机水洗槽喷杆，将喷杆的位置进行调整，在蚀刻法生产中不仅可以提高水洗置换效率，节约用水，并且可降低基板产生水洗不匀的几率，提高良品率。
为了实现上述目的，本实用新型的技术方案是：一种湿刻机水洗槽喷杆，包括喷杆1，喷杆1的一端连接有电动机组4，喷杆1的下端设置有基板2，所述的喷杆1的排列方向为基板2的运行方向。
所述的喷杆1上设置有喷嘴3。
由于喷杆1的方向与基板2的运行方向相同，所以具有节约用水，并且可降低基板产生水洗不匀的几率，提高良品率的特点。
附图说明
附图是本实用新型的结构原理图。
具体实施方式
以下结合附图及实施例对本实用新型作进一步的详细说明。
参照附图，一种湿刻机水洗槽喷杆，包括喷杆1，喷杆1的一端连接有电动机组4，喷杆1的下端设置有基板2，所述的喷杆1的排列方向为基板2的运行方向。
所述的喷杆1上设置有喷嘴3。
喷杆1通过电机组4的启动，不停的摇摆运动，喷嘴3向基板2不停的喷射液体，清洗基板2。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
