[实用新型]一种液晶面板有效
申请号: | 201120227681.7 | 申请日: | 2011-06-30 |
公开(公告)号: | CN202182993U | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
发明(设计)人: | 王凯旋 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人: | 张颖玲;迟姗 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 液晶面板 | ||
技术领域
本实用新型涉及液晶显示器的制造技术,尤其涉及一种液晶面板。
背景技术
高级超维场开关技术(AD-SDS,Advanced-Super Dimensional Switching)通过同一平面内像素电极或公共电极边缘所产生的平行电场,以及像素电极与公共电极间产生的纵向电场形成多维电场,使液晶盒内像素电极或公共电极之间、像素电极或公共电极正上方所有取向液晶分子都能够产生旋转转换,从而提高了平面取向系液晶工作效率,并增大了透光效率。高级超维场开关技术可以提高TFT-LCD画面品质,具有高透过率、宽视角、高开口率、低色差、低响应时间、无挤压水波纹(push Mura)等优点。
为了减少薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD,Thin Film Transistor-Iiquid Crystal Display)的功耗,在设计时会尽可能的增大开口率以增加液晶层的透光效率,使得数据(data)线向的黑矩阵(BM,Black Matrix)的设计值越来越小;如图1所示,AD-SDS产品为常黑的显示模式,由于段差的影响,data线向的后沟槽处11无法进行取向,从而导致液晶12的排列异常,这种排列异常是现有工艺流程中无法避免的,随着开口率的不断增大,data线向的BM13的尺寸将越来越小,TFT与彩膜(CF,Color Filter)对位时容易发生偏移,导致CF侧的BM13随之偏移,从而导致0灰阶(L0,Level Gray 0)下像素周边漏光,对比度(CR,Contrast Ratio)将大大降低,而CR又是TFT-LCD非常重要的参数,因此将会影响TFT-LCD的性能。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型的主要目的在于提供一种液晶面板,能够防止液晶 面板中像素周边漏光。
为达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:
本实用新型提供一种液晶面板,包括:玻璃基板、数据data线、黑矩阵BM和防止漏光物;其中,
防止漏光物贴附在下玻璃基板的下表面,且位于data线中背向摩擦方向的边缘与BM边缘之间。
上述液晶面板中,所述防止漏光物为挡光胶带或BM。
上述液晶面板中,所述挡光胶带为电光胶带。
上述液晶面板中,所述防止漏光物的宽度为data线中背向摩擦方向的边缘与BM边缘之间的距离;
所述防止漏光物的长度为每个亚像素所对应的data线的长度的一半。
上述液晶面板中,该液晶面板还包括液晶、绝缘层、取向膜和上玻璃基板。
本实用新型提供的液晶面板,防止漏光物贴附在下玻璃基板的下表面,且位于data线中背向摩擦方向的边缘与BM边缘之间,因此当液晶面板中发生对位偏移时,利用该方案将避免发生像素周边漏光的问题,从而避免CR的降低。
附图说明
图1是现有技术中液晶面板的截面示意图;
图2是本实用新型的液晶面板的截面示意图;
图3是本实用新型的液晶面板的俯视图。
附图标记说明:
11-data线向的后沟槽处,12-液晶,13-BM,21-下玻璃基板,22-data线,23-防止漏光物,24-绝缘层,25-取向膜,26-上玻璃基板。
具体实施方式
下面通过附图及具体实施例对本实用新型再做进一步的详细说明。
本实用新型提供一种液晶面板,图2是本实用新型的液晶面板的截面示意图,如图2所示,该液晶面板包括:下玻璃基板21、data线22、BM 13和防止漏光物23;其中,防止漏光物23贴附在下玻璃基板21的下表面,且位于data线22中背向摩擦方向的边缘与BM 13边缘之间;其中,图2中从右往左的箭头方向为摩擦方向(rubbing directiong)。
其中,防止漏光物23可以是挡光胶带或BM;例如,挡光胶带可以是电光胶带;如图2所示,所述防止漏光物23的宽度等于data线22中背向摩擦方向的边缘与BM 13边缘之间的距离,如图3所示,所述防止漏光物23的长度等于每个亚像素31所对应的data线的长度的一半,不同液晶面板的亚像素所对应的data线的长度不同;其中,图3中从左往右的箭头方向为摩擦方向。
该液晶面板还可以包括液晶12、绝缘层24、取向膜25和上玻璃基板26。
以上所述,仅为本实用新型的较佳实施例而已,并非用于限定本实用新型的保护范围,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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