[实用新型]带纳米级凹槽的光学保护膜有效
申请号: | 201120230865.9 | 申请日: | 2011-07-04 |
公开(公告)号: | CN202186961U | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 周永南 | 申请(专利权)人: | 江阴市通利包装材料有限公司 |
主分类号: | C09J7/02 | 分类号: | C09J7/02;C09J123/08;C09J131/04 |
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地址: | 214411 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 凹槽 光学 保护膜 | ||
【权利要求书】:
1.带纳米级凹槽的光学保护膜,包括防护层和粘结层,其特征在于,所述防护层外表面设置有纳米级曲面凹槽。
2.如权利要求1所述的保护膜,其特征在于,所述纳米级曲面凹槽排列方式为阵列式或随机式,密度不限。
3.如权利要求2所述的保护膜,其特征在于,所述纳米级曲面凹槽为半球形,所述半球直径为1~100nm。
4.如权利要求3所述的保护膜,其特征在于,所述粘结层为乙烯聚醋酸乙烯共聚物。
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