[实用新型]一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备有效
申请号: | 201120234915.0 | 申请日: | 2011-07-05 |
公开(公告)号: | CN202148346U | 公开(公告)日: | 2012-02-22 |
发明(设计)人: | 刘洁雅 | 申请(专利权)人: | 北京北仪创新真空技术有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/00 | 分类号: | C23C14/00 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;赵镇勇 |
地址: | 102600 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 设备 真空 | ||
1.一种真空镀膜设备的真空室,包括:加热源(1)、支柱(4)、多组传输机构与多块隔板(10);每组传输机构包括传动轴(9)、两个轴承座(8)与多个滚轮(5),传动轴(9)通过两个轴承座(8)安装于支柱(4)上,传动轴(9)上间隔固定滚轮(5),滚轮(5)上还固定有橡胶圈(6);隔板(10)通过螺钉(3)固定于支柱(4)上,隔板(10)上对应橡胶圈(6)的位置开有方孔(11);其特征在于,
所述的隔板(10)上在两传输机构间的位置设有凹槽(12)。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备的真空室,其特征在于,所述的两块隔板(10)的对接接缝的边缘设有向下弯的折边(13)。
3.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备的真空室,其特征在于,所述的凹槽(12)的形状为半圆形、U型或V型。
4.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备的真空室,其特征在于,所述的相邻两组的传输机构的滚轮(5)间隔设置。
5.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备的真空室,其特征在于,所述的每组传输机构的滚轮(5)为4个或5个。
6.一种真空镀膜设备,其特征在于,包括权利要求1至5任意一项所述的真空室。
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