[实用新型]一种真空蒸镀装置有效
| 申请号： | 201120238890.1 | 申请日： | 2011-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN202139291U | 公开（公告）日： | 2012-02-08 |
| 发明（设计）人： | 沐俊应;刘光海 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;赵爱军 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 真空 装置 | ||
1.一种真空蒸镀装置，其特征在于，包括：
蒸发源；
用于移动及承载基板的基板驱动机构，所述基板的表面分成若干个蒸镀子区域；
用于移动及承载掩模板的掩模板驱动机构，所述掩模板位于所述基板下方，所述掩模板的图形区尺寸与所述蒸镀子区域尺寸相同；
蒸镀挡板，位于所述掩模板下方，能够形成与所述掩模板结构相匹配的蒸镀气体透过区；
用于移动及承载所述蒸镀挡板的挡板驱动机构。
2.如权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于：
所述蒸镀挡板包括4个可独立驱动的子挡板，所述4个子挡板能够围成所述蒸镀气体透过区。
3.如权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，还包括：
用于对所述掩模板和待蒸镀的蒸镀子区域进行对位的对位机构。
4.如权利要求3所述的真空蒸镀装置，其特征在于：
所述蒸镀子区域外侧设有第一对位标记，所述掩模板边框区设有第二对位标记，所述对位机构通过所述第一对位标记和第二对位标记对所述掩模板和待蒸镀的蒸镀子区域进行对位。
5.一种真空蒸镀装置，其特征在于，包括：
蒸发源；
用于移动及承载基板的基板驱动机构；
用于移动及承载掩模板的掩模板驱动机构，所述掩模板位于所述基板下方，所述掩模板的图形区尺寸小于所述基板的图形区尺寸；
蒸镀挡板，位于所述掩模板下方，能够形成蒸镀气体透过区；
挡板驱动机构，能够移动及承载所述蒸镀挡板，使得所述蒸镀气体透过区与所述基板的当前蒸镀区域相对应。
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