[实用新型]一种去除四氯化锗中含氢杂质的装置有效

专利信息
申请号: 201120247665.4 申请日: 2011-07-13
公开(公告)号: CN202358933U 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 王少龙;周廷熙;王瑞山;匡子登;何斌;方锦;侯明 申请(专利权)人: 云南驰宏锌锗股份有限公司
主分类号: C01G17/04 分类号: C01G17/04
代理公司: 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 代理人: 赛晓刚
地址: 650228 *** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 去除 氯化 锗中含氢 杂质 装置
【权利要求书】:

1.一种去除四氯化锗中含氢杂质的装置,其特征是在精馏釜(3)上部的精馏塔塔柱顶部有根管路I(I),管路II一端与尾气吸收装置(1)内联接,管路II另一端与冷却系统(10)和电磁铁(YA1)联接,管路I(I)依次与冷却系统(10)、出料电磁摆头(4)、过渡瓶(5)、鼓泡瓶(6)、缓冲瓶A(11)、缓冲瓶B(12)、缓冲瓶C(13)、缓冲瓶D(14)和真空泵(M)联接后,真空泵(M)另一端再与尾气吸收装置(1)联接接通;过渡瓶(5)的另一尾气出口通过管路III依序与液位瓶(7)和尾气吸收装置(1)联接;

出料电磁摆头(4)通过管路I(I)分别与废料瓶(8)、取样口(9)和产品罐(2)接通。 

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