[实用新型]电阻加热式蒸发源

说明书

技术领域

本实用新型涉及应用于真空蒸发镀膜领域，尤其是指一种电阻式加热蒸发源。

背景技术

在真空蒸发镀膜行业中，电阻式加热蒸发源是蒸发镀膜设备最为关键的部件之一，蒸发源内部结构设计是成膜质量好坏的关键。本实用新型涉及蒸发源内部加热设计及坩埚结构。

图1是传统蒸发源的结构，见专利号US2007028389公布的内容，此蒸发源口部没有保温盖罩，蒸发物料很容易在口部沉积，口部沉积的物料很容易被蒸汽带到蒸镀基板上，而且在加热的过程中很可能局部温度过高产生物料飞溅，从而影响了成膜的性能。

图2所示是最有代表性的蒸发源结构，它是LG电子株式会社发表的专利200410056013有机膜蒸发源，其核心内容是：在蒸发源口部加装了隔热阻挡层、保温层等，以提高口部的温度防止坩埚口部沉积。此结构在一定程度上提高了蒸发源上口部的温度，减少了物料在坩埚口部沉积的几率，但是这种结构的设计口部由于没有热量补充，是整个蒸发源热量散失最快的部位，理论上很难保证坩埚口部温度不小于下部物料的温度，因此无法完全避免坩埚上口部物料在口部的沉积，而且其蒸发源口部保温的结构设计也相对比较复杂。

鉴于此，实有必要提出一种新的解决方案以解决上述技术问题。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种电阻式加热蒸发源，以解决蒸发物料在坩埚蒸发口沉积凝结以及坩埚内部局部加热不均匀引起物料飞溅到基片引起的缺陷。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：一种电阻式加热蒸发源，所述蒸发源包括容纳蒸发物料并设有坩埚蒸发口的坩埚、围绕在所述坩埚外围的加热单元、以及包围所述加热单元的源外壁和蒸发源底部；所述加热单元包括位于坩埚蒸发口外围，用于保证坩埚蒸发口的温度高于蒸发物料凝点并独立控温的上部加热单元、位于坩埚主体部分外围独立控温的下部加热单元。

作为本实用新型的优选方案之一，所述位于坩埚主体部分外围独立控温的下部加热单元采用至少两段独立控温的加热单元。

作为本实用新型的优选方案之一，所述坩埚内蒸发物料液面以上设有至少两个不相邻的喷嘴圆盘；所述喷嘴圆盘之间设有间隙。

作为本实用新型的优选方案之一，所述坩埚蒸发口采用束口蒸发结构。

作为本实用新型的优选方案之一，所述加热单元和蒸发源外壁之间设有热屏蔽层。

作为本实用新型的优选方案之一，：所述热屏蔽层的材质为金属材料或不锈钢。

作为本实用新型的优选方案之一，所述热屏蔽层包括包围所述加热单元的上部热屏蔽层、位于蒸发源底部上与上部热屏蔽层构成隔热腔体的第一底部热屏蔽层以及位于蒸发源底部上和第一底部热屏蔽层之间的第二底部热屏蔽层。

作为本实用新型的优选方案之一，所述源外壁与蒸发源底部采用螺栓联接。

作为本实用新型的优选方案之一，所述源外壁为分段式；所述上部热屏蔽层也对应的分段。

作为本实用新型的优选方案之一，所述源外壁采用隔热保温材料。

本实用新型采用如上技术方案的情况下，可以保证坩埚蒸发口处的温度，从而杜绝蒸发物料在坩埚口部的凝结。同时由于采用分段独立控制的加热单元及束口蒸发结构，可以防止因为侧面的加热丝产生过高的温度，使蒸发物料在坩埚壁接触部位温度过高气化或沸腾时物料液滴或颗粒飞溅到蒸镀基片上。

附图说明

图1是现有蒸发源结构示意图。

图2是另一种现有蒸发源结构示意图。

图3是本实用新型电阻式加热蒸发源实施例一的结构示意图。

图4是本实用新型电阻式加热蒸发源实施例一的一种结构分解图。

图5是本实用新型电阻式加热蒸发源实施例一的另一种结构分解图。

图6是本实用新型电阻式加热蒸发源实施例二的结构示意图。

图7a是本实用新型电阻式加热蒸发源实施例三的结构示意图。

图7b是本实用新型电阻式加热蒸发源实施例三中的喷嘴圆盘结构示意图。

图7c是本实用新型电阻式加热蒸发源实施例三中的另一种喷嘴圆盘结构示意图。

图8是坩埚蒸发面边缘物料出射路径示意图。

元件符号说明

具体实施方式

下面通过具体实施例进一步阐述本实用新型提供的电阻式加热蒸发源在防止蒸发物料在坩埚蒸发口沉积凝结及因局部加热不均匀引起物料飞溅方面的显著进步。但本实用新型决非仅限于实施例。