[实用新型]一种靶材真空溅射移位装置有效
| 申请号： | 201120272879.7 | 申请日： | 2011-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN202187059U | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 谢青华;夏尚德;徐龙海 | 申请（专利权）人： | 深圳天泽镀膜有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广东广和律师事务所 44298 | 代理人： | 刘敏 |
| 地址： | 518115 广东省深圳市龙*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 真空 溅射 移位 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种靶材真空溅射移位装置，其包括磁铁、ITO靶材、箱体、阳极罩，其特征在于箱体具有一开口，阳极罩设置于该开口的两侧处，ITO靶材安装于该开口的中间，ITO靶材背部具有磁铁，所述磁铁滑动设置于一导轨上，导轨位于箱体外，并与ITO靶材平行设置。
2.如权利要求1所述的靶材真空溅射移位装置，其特征在于所述磁铁，为永久磁体，其背面固定于金属板上，金属板则固定于一滑动块上，滑动块套系于导轨。
3.如权利要求1所述的靶材真空溅射移位装置，其特征在于所述导轨，其并排设置有刻度板，刻度板上标明移位刻度。
4.如权利要求3所述的靶材真空溅射移位装置，其特征在于上述滑动块，其前端伸出有固定块，固定块对准刻度板。
5.如权利要求1所述的靶材真空溅射移位装置，其特征在于所述箱体，其具有向外伸出的支架，导轨固定在支架上，被支架支撑。
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