[实用新型]溅镀装置有效
申请号: | 201120273726.4 | 申请日: | 2011-07-30 |
公开(公告)号: | CN202187057U | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 陈世浦;林东达;黄炳勋 | 申请(专利权)人: | 华映光电股份有限公司;中华映管股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350015 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
1.一种溅镀装置,适于溅镀一基材,其特征在于,该基材具有一成膜面,该溅镀装置包括:一挡片,具有至少一贯孔,当该溅镀装置处于溅镀状态时该挡片的延伸方向与重力方向相交,该挡片支撑该基材,且该挡片的延伸方向与该基材的成膜面不平行;以及一溅镀源,当该溅镀装置处于溅镀状态时该溅镀源朝向该基材的成膜面发出多个溅镀粒子,其中该贯孔位于该溅镀源与该基材的成膜面之间且适于使部分之该些溅镀粒子穿出该挡片。
2.根据权利要求1所述的溅镀装置,其特征在于,其中该挡片具有一抵触部以及与该抵触部连接的一延伸部,当该溅镀装置处于溅镀状态时该基材承靠于该抵触部,且至少部份的该抵触部位于该溅镀源与该基材的成膜面之间,其中该抵触部的厚度大于该延伸部的厚度。
3.根据权利要求2所述的溅镀装置,其特征在于,其中该挡片的该抵触部具有至少一导角,且当该溅镀装置处于溅镀状态时该导角位于该溅镀源与该基材的成膜面之间。
4.根据权利要求1所述的溅镀装置,其特征在于,其中该贯孔的面积大于等于4.9平方毫米小于等于66平方毫米。
5.根据权利要求1所述的溅镀装置,其特征在于,更包括一载台,承载该基材,且该挡片枢接于该载台。
6.根据权利要求5所述的溅镀装置,其特征在于,更包括一旋转模块,与该载台连接,当该溅镀装置处于基材进入状态时该旋转模块转动该载台而使该基材的成膜面转向该溅镀源,当该溅镀装置处于基材取出状态时该旋转模块转动该载台而使该基材的成膜面转离该溅镀源。
7.根据权利要求6所述的溅镀装置,其特征在于,其中该旋转模块包括一控制单元及驱动单元。
8.根据权利要求5所述的溅镀装置,其特征在于,更包括一弹性件,该载台具有一承接部,当该溅镀装置处于溅镀状态时该承接部的延伸方向与重力方向相交,而该弹性件位于该挡片与该承接部之间且呈压缩状态。
9.根据权利要求8所述的溅镀装置,其特征在于,其中该弹性件包括弹簧。
10.根据权利要求8所述的溅镀装置,其特征在于,更包括枢接于该载台的多个滚轮以及配置于该载台上的多个顶柱,当该溅镀装置处于溅镀状态时该基材位于该溅镀源与该些滚轮以及该些顶柱之间,且该些滚轮、该些顶柱与该挡片共同承接该基材。
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