[实用新型]一种高效流体均布强制脱气高压箔腐蚀装置有效

专利信息
申请号: 201120294583.5 申请日: 2011-12-21
公开(公告)号: CN202210474U 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 马坤松;吉民 申请(专利权)人: 扬州宏远电子有限公司
主分类号: H01G13/00 分类号: H01G13/00;H01G9/055
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 徐激波
地址: 225600 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 高效 流体 强制 脱气 高压 腐蚀 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型专利涉及一种高压电极箔生产技术,具体涉及一种高压电极箔电化学点蚀技术(即:第一直流电解技术)。

背景技术

高压铝电解电容器用阳极箔,为了扩大其有效表面积,增加单位面积的静电容量,一般用电化学腐蚀来处理铝箔,其一般工艺流程为:前处理→第一直流电解→第二直流电解→后处理→腐蚀箔,第一直流电解腐蚀是整个腐蚀工艺的关键,其主要目的是在铝箔表面引发初始蚀孔,并且使蚀孔孔径的大小合理、分布均匀。

现有的高压箔腐蚀装置,如图1所示,循环泵8从腐蚀槽2的底部吸口吸入腐蚀液11,经流量计10控制流量后从腐蚀槽2的四个上角循环打入腐蚀槽2,这样的循环方式使腐蚀过程中铝箔1、电极3表面产生的气体不易排出;铝箔、电极腐蚀过程中电极表面—腐蚀液的物质传递不充分,腐蚀效率低;铝箔、电极腐蚀过程中电极表面—腐蚀液的热量传递不畅,存在局部过热的严重缺陷。

采用现有的高压箔腐蚀装置对(100)晶面占有率较高的软态退火光铝箔腐蚀,形成的腐蚀箔表面蚀孔分布不均、尺寸大小不一、密度低、蚀孔的大小及深度不易控制,出现蚀孔浅、孔径偏小、降低扩面效果的现象,同时高压腐蚀箔经化成后因表面氧化膜较厚,氧化膜填平了表面的浅孔及小孔径孔洞,进一步降低了铝箔的有效表面积,即降低了铝箔的容量,而且容量、强度的一致性不好。

以730Vf 120μm箔为例,其容量为:0.33—0.38μF/cm2,折曲强度为:50—80回,偏差:8—13%。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服现有技术的不足,提供一种高效流体均布、强制脱气高压箔腐蚀装置。 

本实用新型采用的技术方案是:一种高效流体均布强制脱气高压箔腐蚀装置,包括铝箔、腐蚀槽、电极、导电辊筒、传动辊筒、喷酸盒、喷酸孔、循环泵、循环管和流量计,所述电极设置在腐蚀槽内,腐蚀槽内装有腐蚀液,所述喷酸盒固定在电极的底部,并完全浸没在腐蚀液中,喷酸盒的上表面设有喷酸孔,所述传动辊筒安装在喷酸盒的下方,所述导电辊筒安装在腐蚀槽外面,通过导电辊筒和传动辊筒传动的铝箔穿过电极之间,所述循环泵的进口通过循环管与腐蚀槽底部的腐蚀液相通,所述循环泵的出口通过循环管与喷酸盒上的进酸口连接,循环泵与喷酸盒之间的循环管上设有流量计。

作为优选,所述喷酸孔为均匀布置,数目为50~200个,直径为φ1.0~10.0mm;最好数目为100~130个,直径为φ3~5mm。

作为优选,所述电极的间距为450~550mm。

作为优选,所述喷酸盒的间距为8~12mm。

所述流量计控制流量最好为5~7m3/h,工作效果最好。

本实用新型的有益效果是:铝箔表面腐蚀孔洞组织密度高,分布均匀,大小基本一致,呈圆柱状,铝基体边界清楚、厚度适中,腐蚀深度的一致性较好,从而进一步增大了铝箔的有效表面积,即提高了铝箔的容量,而且容量、强度的一致性较好。

以730Vf 120μm箔为例,正常容量可达:0.44—0.48μF/cm2,折曲强度为:90—120回,偏差:3—6%。

附图说明

图1是现有高压箔腐蚀装置结构示意图;

图2是本实用新型的结构示意图;

图3是本实用新型中喷酸盒的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步说明:

如图2、3所示:一种高效流体均布强制脱气高压箔腐蚀装置,包括铝箔1、腐蚀槽2、电极3、导电辊筒4、传动辊筒5、喷酸盒6、喷酸孔7、循环泵8、循环管9和流量计10,所述电极3设置在腐蚀槽2内,腐蚀槽2内装有腐蚀液11,所述喷酸盒6固定在电极3的底部,并完全浸没在腐蚀液11中,喷酸盒6的上表面设有喷酸孔7,所述传动辊筒5安装在喷酸盒6的下方,所述导电辊筒6安装在腐蚀槽2外面,通过导电辊筒4和传动辊筒5传动的铝箔1穿过电极3之间,所述循环泵8的进口通过循环管9与腐蚀槽2底部的腐蚀液11相通,所述循环泵8的出口通过循环管9与喷酸盒6上的进酸口12连接,循环泵8与喷酸盒6之间的循环管9上设有流量计10。

所述电极3的间距为500mm,所述流量计10控制流量为5.5m3/h,所述喷酸盒6的间距为10mm,所述喷酸孔7为均匀布置,数目为120个,直径为φ4mm。

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