[实用新型]一种聚焦定位治疗装置及其系统有效
申请号: | 201120303516.5 | 申请日: | 2011-08-19 |
公开(公告)号: | CN202207404U | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 陈明 | 申请(专利权)人: | 陈明 |
主分类号: | A61N7/00 | 分类号: | A61N7/00;A61B8/00 |
代理公司: | 深圳市科吉华烽知识产权事务所 44248 | 代理人: | 胡吉科;韩英杰 |
地址: | 518019 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 聚焦 定位 治疗 装置 及其 系统 | ||
1. 一种聚焦定位治疗装置,其特征在于,包括:
第一波源组件(102),其上表面为凹球面构件,所述凹球面构件的球心为聚焦焦点(101);
第二波源组件(103),包括至少2个安装在所述凹球面构件上的、分别独立工作的波源晶片,所述波源晶片与所述凹球面构件共球心;以及,
定位组件(104),安装于所述第一波源组件(102)的中心位置,其轴线经过所述聚焦焦点(101),所述定位组件(104)能够相对于其轴线进行旋转和上下运动。
2.根据权利要求1所述的聚焦定位治疗装置,其特征在于,所述第二波源组件(103)的波源晶片采用超声晶片,所述超声晶片的波源发射面以聚焦焦点(101)为球心。
3.根据权利要求1所述的聚焦定位治疗装置,其特征在于,所述定位组件(104)采用用于进行断层扫描的B超探头。
4.根据权利要求1、2或3所述的聚焦定位治疗装置,其特征在于,所述第二波源组件(103)包括3个独立工作的波源晶片,所述波源晶片等距离安装于所述凹球面构件上。
5.根据权利要求1、2或3所述的聚焦定位治疗装置,其特征在于,所述第二波源组件(103)包括8个独立工作的波源晶片,所述波源晶片等距离安装于所述凹球面构件上。
6.一种聚焦定位治疗系统,其特征在于,包括:如权利要求1所述的聚焦定位治疗装置和晶片控制装置,所述晶片控制装置与所述第二波源组件(103)相连。
7.根据权利要求6所述的聚焦定位治疗系统,其特征在于,所述波源晶片采用超声晶片。
8.根据权利要求7所述的聚焦定位治疗系统,其特征在于,还包括主机,所述聚焦定位治疗装置安装于所述主机上。
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