[实用新型]一种MOCVD系统及其中反应气体的排气装置有效
申请号: | 201120320510.9 | 申请日: | 2011-08-30 |
公开(公告)号: | CN202208759U | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 陈爱华;吕青;金小亮;张伟 | 申请(专利权)人: | 中晟光电设备(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 mocvd 系统 其中 反应 气体 排气装置 | ||
1.一种MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,所述排气装置包含一环状的排气环(400),其在该MOCVD系统的反应室内环绕设置;
所述排气环(400)设置有若干个内部空槽(412),以容纳冷却液并使冷却液在所述若干个内部空槽(412)内流动;
所述排气环(400)还设置有贯穿该排气环(400)的结构,以使反应区域内的反应气体通过该贯穿结构排出。
2.如权利要求1所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,
供反应气体贯穿所述排气环(400)排出的结构,是在所述排气环(400)径向上均匀分布的贯穿的若干排气孔(411),或者是所述排气环(400)上对称分布的贯穿的多个排气槽。
3.如权利要求1所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,
所述排气装置还包含至少两个连杆(440),所述连杆(440)与所述排气环(400)分别固定连接;
所述连杆(440)中至少两个连杆设置有供冷却液流通的内部空槽(441),所述内部空槽(441)分别与所述排气环(400)的内部空槽(412)相连通,以使冷却液流入或流出所述排气环(400)的内部空槽(412),实现对排气环(400)的冷却循环;
或者,所述连杆(440)中至少一个连杆设置有供冷却液流通的相互独立的若干个内部空槽,分别与所述排气环(400)的内部空槽(412)相连通,以使冷却液流入或流出所述排气环(400)的内部空槽(412),实现对排气环(400)的冷却循环。
4.如权利要求1所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,
在所述排气环(400)上设有凸起的第一环状挡板(421),所述第一环状挡板(421)一端连接在排气环(400)的环壁(413)内侧,另一端朝着排气环(400)径向的中心方向延伸,并与所述MOCVD系统中的托盘(501)相配合,以阻挡反应气体进入所述托盘(501)的下方。
5.如权利要求1或4所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,
在所述排气环(400)的底部设有凸起的第二环状挡板(422),所述第二环状挡板(422)一端连接在排气环(400)的环壁(413)内侧;另一端朝着排气环(400)径向的中心方向延伸,并与所述MOCVD系统中的加热器隔离环(503)相配合,以阻挡反应气体进入所述托盘(501)的下方。
6.如权利要求1所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,
所述排气装置还包含外环部分(430),其进一步包含环盖(431)和主体(432);
所述环盖(431)是设置在所述外环部分(430)上部的环状结构,其一端与所述排气环(400)相连接,另一端与纵向布置的所述主体(432)的顶部相连接;以使所述主体(432)以一定的间隔距离环绕在所述排气环(400)的环壁(413)外侧,从而在所述主体(432)与所述排气环(400)之间形成供反应气体流动的间隔空隙。
7.如权利要求6所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,
所述外环部分(430)进一步包含环状的底环(433),其一端连接在所述主体(432)底部,另一端与所述排气环(400)的环壁(413)外侧相连接;所述底环(433)上开设有多个均匀分布的排气孔(434)。
8.如权利要求1或3所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,
所述排气装置还包含驱动装置,其带动所述排气环(400)在第一位置和第二位置之间上升或下降,其中第一位置高于第二位置;
所述排气环(400)在处于第一位置时,将所述MOCVD系统中反应室与外部连通的通道闭合;
所述排气环(400)在处于第二位置时,将所述MOCVD系统中反应室与外部连通的通道打开。
9.如权利要求8所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,
所述驱动装置包含导轨滑块(451),所述导轨滑块(451)与所述连杆(440)的下部固定连接,所述连杆(440)的上部与所述排气环(400)的底部固定连接;所述导轨滑块(451),连杆(440)与排气环(400)一起上升和下降。
10.一种MOCVD系统,其特征在于,包含反应室和排气装置;
所述排气装置包含排气环(400),所述排气环(400)在所述反应室内环绕设置,所述排气环(400)设置有容纳冷却液并使冷却液在其中流通的若干内部空槽(412),以及使反应区域内的反应气体贯穿所述排气环(400)排出的结构;
所述排气装置还包含至少两个与所述排气环(400)相连接的连杆(440),以及驱动所述连杆(440)上下升降并带动所述排气环(400)升降的驱动装置;
其中所述连杆(440)中至少两个连杆设置有供冷却液流通的内部空槽(441),内部空槽(441)分别与所述排气环(400)的内部空槽(412)相连通,以使冷却液流入或流出所述排气环(400)的内部空槽(412),实现对排气环(400)的冷却循环;
或者,所述连杆(440)中至少一个连杆设置有供冷却液流通的相互独立的若干个内部空槽,分别与所述排气环(400)的内部空槽(412)相连通,以使冷却液流入或流出所述排气环(400)的内部空槽(412),实现对排气环(400)的冷却循环;
所述MOCVD系统的反应室设置有与系统外部连通的通道;在进行外延反应时,所述反应室与外部连通的通道由所述排气环(400)闭合。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
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