[实用新型]一种MOCVD系统及其中反应气体的排气装置有效

专利信息
申请号: 201120320510.9 申请日: 2011-08-30
公开(公告)号: CN202208759U 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 陈爱华;吕青;金小亮;张伟 申请(专利权)人: 中晟光电设备(上海)有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 张静洁;徐雯琼
地址: 201203 上海市浦东新区张*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 mocvd 系统 其中 反应 气体 排气装置
【权利要求书】:

1.一种MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,所述排气装置包含一环状的排气环(400),其在该MOCVD系统的反应室内环绕设置;

所述排气环(400)设置有若干个内部空槽(412),以容纳冷却液并使冷却液在所述若干个内部空槽(412)内流动;

所述排气环(400)还设置有贯穿该排气环(400)的结构,以使反应区域内的反应气体通过该贯穿结构排出。

2.如权利要求1所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,

供反应气体贯穿所述排气环(400)排出的结构,是在所述排气环(400)径向上均匀分布的贯穿的若干排气孔(411),或者是所述排气环(400)上对称分布的贯穿的多个排气槽。

3.如权利要求1所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,

所述排气装置还包含至少两个连杆(440),所述连杆(440)与所述排气环(400)分别固定连接;

所述连杆(440)中至少两个连杆设置有供冷却液流通的内部空槽(441),所述内部空槽(441)分别与所述排气环(400)的内部空槽(412)相连通,以使冷却液流入或流出所述排气环(400)的内部空槽(412),实现对排气环(400)的冷却循环;

或者,所述连杆(440)中至少一个连杆设置有供冷却液流通的相互独立的若干个内部空槽,分别与所述排气环(400)的内部空槽(412)相连通,以使冷却液流入或流出所述排气环(400)的内部空槽(412),实现对排气环(400)的冷却循环。

4.如权利要求1所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,

在所述排气环(400)上设有凸起的第一环状挡板(421),所述第一环状挡板(421)一端连接在排气环(400)的环壁(413)内侧,另一端朝着排气环(400)径向的中心方向延伸,并与所述MOCVD系统中的托盘(501)相配合,以阻挡反应气体进入所述托盘(501)的下方。

5.如权利要求1或4所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,

在所述排气环(400)的底部设有凸起的第二环状挡板(422),所述第二环状挡板(422)一端连接在排气环(400)的环壁(413)内侧;另一端朝着排气环(400)径向的中心方向延伸,并与所述MOCVD系统中的加热器隔离环(503)相配合,以阻挡反应气体进入所述托盘(501)的下方。

6.如权利要求1所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,

所述排气装置还包含外环部分(430),其进一步包含环盖(431)和主体(432);

所述环盖(431)是设置在所述外环部分(430)上部的环状结构,其一端与所述排气环(400)相连接,另一端与纵向布置的所述主体(432)的顶部相连接;以使所述主体(432)以一定的间隔距离环绕在所述排气环(400)的环壁(413)外侧,从而在所述主体(432)与所述排气环(400)之间形成供反应气体流动的间隔空隙。

7.如权利要求6所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,

所述外环部分(430)进一步包含环状的底环(433),其一端连接在所述主体(432)底部,另一端与所述排气环(400)的环壁(413)外侧相连接;所述底环(433)上开设有多个均匀分布的排气孔(434)。

8.如权利要求1或3所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,

所述排气装置还包含驱动装置,其带动所述排气环(400)在第一位置和第二位置之间上升或下降,其中第一位置高于第二位置;

所述排气环(400)在处于第一位置时,将所述MOCVD系统中反应室与外部连通的通道闭合;

所述排气环(400)在处于第二位置时,将所述MOCVD系统中反应室与外部连通的通道打开。

9.如权利要求8所述MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,

所述驱动装置包含导轨滑块(451),所述导轨滑块(451)与所述连杆(440)的下部固定连接,所述连杆(440)的上部与所述排气环(400)的底部固定连接;所述导轨滑块(451),连杆(440)与排气环(400)一起上升和下降。

10.一种MOCVD系统,其特征在于,包含反应室和排气装置;

所述排气装置包含排气环(400),所述排气环(400)在所述反应室内环绕设置,所述排气环(400)设置有容纳冷却液并使冷却液在其中流通的若干内部空槽(412),以及使反应区域内的反应气体贯穿所述排气环(400)排出的结构;

所述排气装置还包含至少两个与所述排气环(400)相连接的连杆(440),以及驱动所述连杆(440)上下升降并带动所述排气环(400)升降的驱动装置;

其中所述连杆(440)中至少两个连杆设置有供冷却液流通的内部空槽(441),内部空槽(441)分别与所述排气环(400)的内部空槽(412)相连通,以使冷却液流入或流出所述排气环(400)的内部空槽(412),实现对排气环(400)的冷却循环;

或者,所述连杆(440)中至少一个连杆设置有供冷却液流通的相互独立的若干个内部空槽,分别与所述排气环(400)的内部空槽(412)相连通,以使冷却液流入或流出所述排气环(400)的内部空槽(412),实现对排气环(400)的冷却循环;

所述MOCVD系统的反应室设置有与系统外部连通的通道;在进行外延反应时,所述反应室与外部连通的通道由所述排气环(400)闭合。

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