[实用新型]基板清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示器制造领域，尤其涉及基板清洗装置。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，简称：TFT LCD)的制造过程主要包括制造阵列基板、阵列基板和彩膜基板的对盒以及模块组装等工艺，其中制造阵列基板的工艺主要包括成膜、光刻和刻蚀。对基板进行清洗的工艺决定了产品的良品率，所以在成膜和光刻工艺之前，都需要对基板进行清洗。

如图1所示，现有技术的基板清洗装置包括清洗舱11、设置在清洗舱内部的清洗单元13以及贯穿该清洗舱的传送单元12。其中，清洗单元13设置在清洗舱11的顶部且清洗单元13的清洗口131朝向传送单元12。在进行基板清洗时，传送单元12将基板14的待清洗面141朝上送入清洗舱11，通过清洗单元13提供的外力来克服待清洗面141上存在的颗粒与基板14之间的黏附力，并以外力对颗粒持续做功直至颗粒脱离基板14来达到清洗作用的。

在实现本实用新型的过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：清洗单元提供的外力要克服颗粒与基板的黏附力，同时要对颗粒持续做功直至颗粒脱离基板，然而颗粒自身重力及与基板的黏附力引起的摩擦力会阻碍颗粒运动，造成基板从清洗舱清洗后，基板上仍然残留有颗粒。

实用新型内容

本实用新型的实施例提供一种基板清洗装置，用于解决现有技术中基板上的颗粒的自身重力及与基板的黏附力引起的摩擦力阻碍颗粒运动，造成基板从清洗舱清洗后，基板上仍然残留有颗粒的问题。

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：

一种基板清洗装置，包括清洗舱，贯穿所述清洗舱且位于所述清洗舱上方的传送单元，以及设置在所述清洗舱内部且位于所述清洗舱底部的清洗单元，所述清洗单元的清洗口朝向所述传送单元。

具体的，所述传送单元包括基板吸附台以及用于传送该基板吸附台的导轨，所述导轨贯穿所述清洗舱，所述基板吸附台与所述导轨连接，且基板吸附台的吸附面朝向所述清洗单元的清洗口。

优选的，为了便于机械化控制，所述导轨为主动式导轨。

优选的，所述基板吸附台为真空吸附台。由于基板在清洗时，清洗单元会对基板产生力的作用，采用真空基板吸附台，吸附力大，保证基板不会在清洗时落下。

进一步的，所述传送单元还包括后基台和机械手，所述后基台位于所述清洗舱的出口，在基板吸附台由所述导轨传送至清洗舱的出口时，所述基板吸附台上吸附有基板，所述机械手位于所述后基台的上方，用于将基板吸附台取出清洗舱、翻转该基板吸附台并将该基板吸附台放置到所述后基台上。这样有利于后续机械设备取走清洗后的基板，提高了整个系统的工作效率。

进一步的，所述传送单元还包括前基台，所述前基台位于所述清洗舱的入口，在基板进入清洗舱前，所述基板放置在所述前基台上，所述基板的待清洗面朝向所述前基台，所述基板吸附台在进入所述清洗舱前通过机械手位于所述前基台上方。这样在清洗前，将基板放置于前基台上，等待基板吸附台吸附后进入清洗单元清洗，有利于整个系统的工作运行，提高了系统的工作效率。

具体的，所述清洗单元包括，从所述清洗舱入口至出口方向，依次为：紫外子单元、药液喷淋子单元、纯水刷洗子单元、高压喷淋子单元、超声波子单元。由于基板在清洗前有不同类别的待清洗物质，紫外子单元用来去除基板上的有机物，药液喷淋子单元用于去除基板上的氧化物，纯水刷洗子单元、高压喷淋子单元在对残留在基板上的颗粒进行清洗的同时，还对前面由于药液喷淋子单元工作时基板上残留的药液进行清洗，超声波子单元对残留在基板上的颗粒进行进一步的清洗。

进一步的，所述紫外子单元包括紫外线灯，所述药液喷淋子单元包括药液喷头，所述纯水刷洗子单元包括滚刷和纯水喷头，所述高压喷淋子单元包括高压喷头，所述超声波子单元包括超声源和喷头。

进一步的，所述清洗单元还包括气刀干燥子单元，所述气刀干燥子单元置于超声波子单元后。由于基板在清洗过后，都需要进行干燥，所述气刀干燥单元不仅对基板进行了干燥，还对残留在基板上的颗粒进行了进一步清除。

本实用新型实施例提供的基板清洗装置，由于所述基板清洗装置是把所述基板的待清洗面朝下放置进行清洗的，在清洗过程中清洗单元提供的外力一旦克服颗粒与基板的黏附力，颗粒就会因自身重力下落而脱离基板，解决了由于基板上的颗粒的自身重力及与基板的黏附力引起的摩擦力阻碍颗粒运动，造成基板从清洗舱清洗后，基板上仍然残留有颗粒的问题。

附图说明