[实用新型]一种高透导电薄膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种导电薄膜，尤其涉及一种高透导电薄膜，应用于电容式触摸屏的制作领域。

背景技术

透明导电膜(TCO)目前最主要的应用是ITO，还有其他AZO等。ITO薄膜是一种半导体透明薄膜, 它是氧化铟锡( Indium Tin Oxide) 英文名称的缩写。作为透明导电电极, ITO 薄膜有良好的透明性和导电性。应用ITO膜的这一特性，现实中常把它用在显示设备的透明电极。

到目前，在柔性透明基板，即聚对苯二甲酸乙二酯（PET）上ITO镀膜方法有很多种，尽管方法很多，目的无非就是提高膜的透明和导电性。其中，透明性对显示产品的品质至关重要，当然触摸屏也不例外。但是PET材料本身具有一定的折射率 n = 1.5~1.6之间，直接与空气接触的话材料上表面与下表面的反射率4.0~5.3%，就是说PET材质本身的透光率只能在89.4~92%之间。在此基础上直接镀ITO膜的话，因为ITO材料对光具有一定的吸收性，目前很多产品的透光率达不到85%以上，只有日本的少数几家生产ITO膜的透光率高于85%。

为了得到更高的透光率，在实际操作中使用高透光率的柔性基板PET上减少ITO膜的厚度的方法来减少ITO对可见光的吸收。但是随之而来的是，因为厚度减小而带来的电阻率变小等问题。

有的方法是，在成品上覆上一层增透膜（AR膜），这样做一定程度上增加了成品的透光率，但是增加了工序，减小了工程良率和增大了产品的成本。有的产品是在PET基板上面镀折射率高低有序的增透膜，在其上面镀ITO。这样做有效减少了PET上表面对光的反射，但是无法减少材料下表面对光的反射。

发明内容

为了克服上述缺陷，本实用新型的目的在于提供一种高透导电薄膜的结构。

为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种高透导电薄膜，它包括柔性透明基板、柔性透明基板上表面的增透膜、上部增透膜上面的绝缘膜、绝缘膜上面的透明导电薄膜和柔性透明基板下表面的下部增透膜。

所述柔性透明基板的厚度为50~200um。所述透明导电薄膜的厚度为20~200纳米。

上部增透膜，透过率高低有序的有效光程为λ/4的Nb₂O₅、SiO₂所组成。绝缘膜，由SiON所组成。透明导电膜由主成分为ITO所组成。下部增透膜，是由成分为MgF₂所组成。

本实用新型的制作工艺与所带来的有益效果如下：

在柔性透明基板基础上，利用磁控溅射镀膜技术，在其上表面镀透过率高低有序的、每层有效光程为λ/4的增透膜。其中Nb₂O₅为折射率高的物质，其折射率为2.3；SiO₂为折射率低的物质，其折射率为1.5。

在镀完SiO₂的基础上，利用磁控溅射镀膜技术，再上面镀有效光程为λ/4的SiON膜层，其上面镀厚度为20~200纳米的透明导电薄膜（ITO膜）。这是因为触摸屏制作过程中通常在ITO膜上面用酸性液进行蚀刻，而蚀刻部分的SiON和ITO之间的折射率相近，所以反射率基本相等，有效减少蚀刻后发现蚀刻纹的问题，且SiON有很高的耐酸特性，有效防止酸性蚀刻液破坏膜系结构。

在上面基础上，利用磁控溅射镀膜技术，在PET下表面镀一层MgF₂。这样做的好处是，PET折射率为1.5~1.6，空气折射率为1.0，而MgF₂的折射率为1.28起到PET和空气之间的缓冲层，把下表面的反射率从4.0~5.3%降到1.5~2.0%左右，起到增透膜的作用。

附图说明

图1 本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

为了详细叙述本实用新型专利的上述特点，优势和工作原理，下面结合说明书附图和具体实施方式对本实用新型做进一步的说明，但本实用新型所保护的范围并不局限于此。

一种高透导电薄膜，它包括柔性透明基板1、柔性透明基板1上表面的增透膜2、上部增透膜2上面的绝缘膜3、绝缘膜3上面的透明导电薄膜4和柔性透明基板1下表面的下部增透膜5。

所述柔性透明基板1的厚度为50~200um。所述透明导电薄膜4的厚度为20~200纳米。

上部增透膜2，透过率高低有序的有效光程为λ/4的Nb₂O₅、SiO₂所组成。绝缘膜3，由SiON所组成。透明导电膜4由主成分为ITO所组成。下部增透膜5，是由成分为MgF₂所组成。