[实用新型]氢化炉炉盘绝缘装置有效

专利信息
申请号: 201120338421.7 申请日: 2011-09-09
公开(公告)号: CN202201714U 公开(公告)日: 2012-04-25
发明(设计)人: 郑小刚;沈伟 申请(专利权)人: 四川瑞能硅材料有限公司
主分类号: C01B33/03 分类号: C01B33/03
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 徐宏;吴彦峰
地址: 620041 *** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 氢化 炉炉盘 绝缘 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种氢化炉,特别是一种氢化炉炉盘的绝缘装置。

背景技术

氢化炉运行过程中,电绝缘急剧下降现象是导致氢化炉异常停炉的重要原因之一,电绝缘急剧下降的原因是碳-碳隔热罩运行中出现氧化现象的粉末掉落至氢化炉炉盘;电极通电后发出的热量无法及时移除会导致电极密封性差,出现物料泄露。以上原因是影响氢化炉的正常运行的重要原因,如何解决电绝缘急剧下降和电极密封性差的问题,是多晶硅行业高度重视的话题。现有技术的缺点是:1)氢化炉运行一段时间后电绝缘性急剧下降导致氢化炉异常跳停。2)碳-碳隔热罩在氢化运行中出现氧化现象的粉末掉落至氢化炉炉盘,导致电绝缘下降。3)电极热量无法移除导致电极密封性差,从而引起氢化物料泄露,影响氢化炉正常运行。4)氢化炉炉内热场效应不理想,四氯化硅氢化转化率低。

实用新型内容

本实用新型的发明目的在于:针对上述存在的问题,提供一种结构简单,操作简便,且能够提高氢化炉电极的耐热性和氢化电极密封性能,防止物料泄露, 防止生产运行过程中碳-碳编制体隔热罩掉落粉末在炉盘上面导致氢化炉电绝缘的现象发生,保证氢化炉持久运行,改善氢化炉炉内热场效应,热流分布合理化,提高四氯化硅氢化转化率的氢化炉炉盘绝缘装置。

本实用新型采用的技术方案如下:

本实用新型的氢化炉炉盘绝缘装置,包括绝缘体,所述绝缘体设置于氢化炉内底部的炉盘上,且炉盘上设置有电极,所述电极穿过绝缘体连接于炉盘上。

由于采用了上述机构,在氢化炉的炉盘上设置一个绝缘体,防止生产运行过程中碳-碳编制体隔热罩掉落粉末在炉盘上面导致氢化炉电绝缘的现象发生,由于氢化炉内的炉盘上设置有电极,因此为了避免粉末掉落在炉盘上,需要将绝缘体设置在电机之下,所以需要极穿过绝缘体连接于炉盘上。本实用新型的氢化炉炉盘绝缘装置,结构简单,操作简便,且能够提高氢化炉电极的耐热性和氢化电极密封性能,防止物料泄露, 防止生产运行过程中碳-碳编制体隔热罩掉落粉末在炉盘上面导致氢化炉电绝缘的现象发生,保证氢化炉持久运行,改善氢化炉炉内热场效应,热流分布合理化,提高四氯化硅氢化转化率。

本实用新型的氢化炉炉盘绝缘装置,所述绝缘体的中心设置有尾气出口,所述绝缘体上均布有圆孔。

由于采用了上述结构,在绝缘体的中心设置有尾气出口,便于尾气的排除,在绝缘体上均布有圆孔,便于安插电极,从而避免粉末掉落至炉盘上,引起绝缘急剧下降。

本实用新型的氢化炉炉盘绝缘装置,所述绝缘体采用三氧化二铝制成。

由于采用了上述结构,采用三氧化二铝陶瓷材质作为氢化炉炉盘绝缘装置,防止生产运行中粉末掉落至炉盘引起绝缘急剧下降,提高氢化电极的热量移除速度,改善电极的密封性能,防止氢化物料泄露, 改善氢化炉炉内热场分布,提高四氯化硅氢化转化率,保证氢化炉长期稳定的运行。

综上所述,由于采用了上述技术方案,本实用新型的有益效果是:

1.    本实用新型的氢化炉炉盘绝缘装置,结构简单,操作简便,且能够提高氢化炉电极的耐热性和氢化电极密封性能;

2.    本实用新型的氢化炉炉盘绝缘装置,防止物料泄露, 防止生产运行过程中碳-碳编制体隔热罩掉落粉末在炉盘上面导致氢化炉电绝缘的现象发生,保证氢化炉持久运行,改善氢化炉炉内热场效应;

3.    本实用新型的氢化炉炉盘绝缘装置,热流分布合理化,提高四氯化硅氢化转化率,保证氢化炉长期稳定的运行。

附图说明

图1是本实用新型的氢化炉炉盘绝缘装置的结构示意图;

图2是图1中的A-A剖视图。

图中标记:1-绝缘体、2-圆孔。

具体实施方式

下面结合附图,对本实用新型作详细的说明。

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

如图1和图2所示,本实用新型的氢化炉炉盘绝缘装置,包括绝缘体1,所述绝缘体1设置于氢化炉内底部的炉盘上,且炉盘上设置有电极,所述电极穿过绝缘体1连接于炉盘上。所述绝缘体1的中心设置有尾气出口,所述绝缘体1上均布有圆孔。所述绝缘体1采用三氧化二铝制成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川瑞能硅材料有限公司,未经四川瑞能硅材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120338421.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top