[实用新型]可钢化双银低辐射镀膜玻璃有效
申请号: | 201120347339.0 | 申请日: | 2011-09-16 |
公开(公告)号: | CN202671425U | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | 张大为;赵永进;杨贵祥;方志坚 | 申请(专利权)人: | 天津耀皮工程玻璃有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 300409 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 可钢化双银低 辐射 镀膜 玻璃 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种镀膜玻璃,特别是涉及一种可钢化双银低辐射镀膜玻璃。
背景技术
双银低辐射镀膜玻璃也称双银Low-E玻璃,是在优质浮法玻璃表面,镀数层低辐射材料及其它金属化合物薄膜而形成。低辐射镀膜玻璃具有以下特点:拥有两层阻绝红外线膜层Ag,与单银低辐射镀膜相比,拥有更低的表面辐射率,更高的远红外(热辐射)反射率,可阻挡玻璃吸收热升温后以辐射形式从膜面向外散热,也可直接反射远红外热辐射。双银Low-E膜的以上两个特性与中空玻璃对热的对流传导的阻隔作用相配合,便构成了U值极低的双银Low-E中控玻璃。它可阻隔热量从热的一端想冷的一端传递,冬季阻挡室内的热量斜向室外,可将室内的热量保持在室内,起到节能的作用;而夏季阻挡室外热辐射进入室内,起到良好的隔热作用,是目前最理想的粗昂玻璃材料。
目前双银低辐射镀膜玻璃生产的主要方法是离线真空磁控溅射法:在原板玻璃上已真空磁控溅射方式溅射多层金属或陶瓷氧化金属)薄膜,引起不与玻璃制程连线,故成为离线镀膜,此方法工艺生产的双银低辐射镀膜玻璃,需要两层纯银薄膜作为功能膜,纯银膜两层金属氧化物之间,金属氧化物膜对纯银膜提供保护,且作为膜层之间的中间层,有调整镀膜玻璃颜色及抗反射增加透过率的作用,其具有下列特性;1)接近玻璃的自然原色,对波长(380nm-780nm)的可见光波段有着高透过率,不致因玻璃对可见光的高反射而产生严重的反眩光公害;2)太阳光中可见光透入室内多,且颜色自然、采光佳,减少室内灯具的使用,节约能源;3)对红外线光有较高的反射率(波长780nm-3000nm),尤其是对长波的红外线(波长3000nm以上),几乎是全反射,可阻断大量热源进入,是室内觉得凉爽,达到冬暖夏凉的效果;适合于高档的幕墙建筑使用。
但由于安全性的考虑,上述双银低辐射镀膜玻璃常要进行钢化处理,如果镀膜后在进行钢化,由于高温(680度以上)的作用,使镀膜层极易被氧化和烧坏,导致双银低辐射镀膜玻璃的功能完全丧失。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种可钢化双银低辐射镀膜玻璃,钢化后仍能保持高性能特性。
本实用新型解决技术问题所采用的技术方案如下:
一种可钢化双银低辐射镀膜玻璃,自玻璃基片向外一次包括抗反射膜层1;底层阻绝红外线膜层2;底层金属隔离膜层3;抗反射膜层中间层4、顶层阻绝红外线膜层5;顶层金属隔离膜层6;总体保护膜层7。
所述抗反射膜层为Si3N4+陶瓷氧化锌铝;阻绝红外线膜层为金属Ag层;金属隔离膜层为NiCr合金层;总体保护膜层为Si3N4层。所述阻绝红外线膜层金属Ag层为两层。所述抗反射膜层膜厚为33-35nm。金属隔离膜层厚6-8nm阻绝红外线膜层厚度为20-23nm。中间层抗反射膜层的厚度为88-92nm。所述总体保护膜层的厚度为32-36nm。
本使用新型的有益效果是:由于本使用新型的可钢双银低辐射镀膜玻璃上的各膜层安排合理可以钢化和热处理,并且在进行钢化或热处理后仍能保持高性能特性;具有非常好的隔热节能作用;产品可储存4-6个月不会氧化;具有自然颜色,在可见光波段具有高透过率,不会产生严重的反炫光公害。
附图说明
图1:实用新型中空玻璃结构示意图;
图2:各膜层结构示意图。
具体实施方式
如图1、图2所示:底层抗反射膜层1为Si3N4+陶瓷氧化锌铝,可以降低反射率;调整玻璃面颜色;阻挡玻璃钢化时基片本身释放的Na及O2侵蚀Ag膜层,造成Ag层被氧化而丧失功能。底层抗反射膜层1的膜厚约为33-35nm。
金属隔离膜层3(顶层,底层共两层)为NiCr合金,可以保护Ag层,避免Ag层被氧化,延长储存时间。金属隔离膜层3的膜厚(顶层+底层)为6-8nm。
中间层抗反射膜层1的陶瓷氧化锌铝+Si3N4+ZnAlO2,可以调整膜层颜色;提高可见光透过率。陶瓷氧化锌铝膜层厚度88-92nm。
阻绝红外线膜层2(顶层,底层共两层)为金属Ag,可以降低辐射率;增加隔热或保温的效果。阻绝红外线膜层2的厚度(顶层+底层)为20-23nm。
总体保护膜层4为Si3N4,可以调整镀膜面的颜色;提高总体膜层耐化学物质或O2侵蚀Ag层;减少氧化。总体保护膜层4膜厚约为32-36nm。
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