[实用新型]一种触控屏溢胶清除设备的结构

权利要求书

1.一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：它包括：

一工作台，具有一水平表面；

一旋座，旋转配合于所述工作台表面，具有可水平固定触控屏的一底板治具；以及

一擦除装置，设置于所述工作台，具有可在所述工作台表面上三维活动的伺服头；该伺服头下方固定软质材料的一擦拭块，该擦拭块底部具有可同时配合所述触控屏其溢胶区域的横截面形状和沿其擦拭方向逐渐升高的擦拭面；所述擦除装置还具有用于喷洒有机溶剂的一喷口，该喷口固定于所述擦拭块附近；

其中，所述擦拭块的移动区域覆盖所述旋座360°旋转过程中所述触控屏的所有溢胶区域转至某相同一侧产生的最大范围。

2.根据权利要求1所述一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：所述擦拭块通过一可改变其高度的调节器固定于所述伺服头。

3.根据权利要求2所述一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：所述伺服头还包括可随所述擦拭块移动而吸入所述触控屏溢胶区域内胶料的一吸胶口。

4.根据权利要求3所述一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：旋座还包括可真空吸附固定所述触控屏的一吸附装置。

5.根据权利要求1至4任一项所述一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：所述擦除装置包括：

X轨，平行固定于所述工作台水平表面；其上滑动配合一X滑块；

Y轨，固定于所述X滑块，其延伸方向与所述工作台平行，并与所述X轨垂直；其上滑动配合一Y滑块；以及

Z轨，竖直状态固定于所述Y滑块；

其中，所述喷口固定于所述Y滑块，所述伺服头垂直滑动配合于所述Z轨。

6.根据权利要求2所述一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：所述调节器为千分尺形态的微调结构。