[实用新型]一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔

权利要求书

1. 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔，包括腔体，所述腔体上开有进出片口、机械泵接口、下电极接口、分子泵接口，所述腔体的上端安装有顶盖和石英盖，其特征在于：所述腔体内安装有匀气盘、穿过腔体底部和匀气盘的工艺气体管道，所述工艺气体管道的气体出口设置在匀气盘上方并正对匀气盘中心；所述匀气盘的中间开有大于下电极直径的下电极通口，所述匀气盘上开有多个通气孔，横向上相邻所述通气孔的间距是等差数列递增，纵向上相邻所述通气孔的间距从中心到边缘是等差数列递减。

2.  根据权利要求1所述的一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔，其特征在于：所述腔体的外形是长方体，其内腔是圆柱形。

3.  根据权利要求1或2所述的一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔，其特征在于：所述匀气盘通过支撑杆安装在腔体内。

4.  根据权利要求3所述的一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔，其特征在于：所述进出片口、分子泵接口均设置在腔体的侧面上，所述机械泵接口、下电极接口均设置在腔体的底部。

5.  根据权利要求4所述的一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔，其特征在于：所述匀气盘上离分子泵接口远的通气孔排列密集，离分子泵接口近的通气孔排列稀疏。

6.  根据权利要求5所述的一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔，其特征在于：所述腔体上设有观察窗，所述观察窗的高度与匀气盘高度相当。

7.  根据权利要求6所述的一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔，其特征在于：所述通气孔的直径为0.1-10毫米。

8.  根据权利要求7所述的一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔，其特征在于：所述进出片口的长度大于机械手的宽度，其宽度大于机械手和片盘的高度和。

9.  根据权利要求8所述的一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔，其特征在于：所述下电极在腔体内的初始高度低于所述进出片口离腔体底部的距离。