[实用新型]一种用于辅助固定干法刻蚀工艺中装片装置的防护盖板有效
申请号: | 201120354264.9 | 申请日: | 2011-09-20 |
公开(公告)号: | CN202268334U | 公开(公告)日: | 2012-06-06 |
发明(设计)人: | 袁根如;郝茂盛;王来 | 申请(专利权)人: | 上海蓝光科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L33/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 辅助 固定 刻蚀 工艺 中装 装置 防护 盖板 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种防护盖板,特别是涉及一种用于辅助固定干法刻蚀工艺中装片装置的防护盖板。
背景技术
发光二极管具有体积小、效率高和寿命长等优点,在交通指示及户外全色显示等领域有着广泛的应用。尤其是利用大功率发光二极管可能实现半导体固态照明,引起人类照明史的革命,从而逐渐成为目前电子学领域的研究热点。为了获得高亮度的LED,关键要提高器件的内量子效率和外量子效率。目前,芯片光提取效率是限制器件外量子效率的主要因素,其主要原因是外延材料、衬底材料以及空气之间的折射率差别较大,导致有源区产生的光在不同折射率材料界面发生全反射而不能导出芯片。
目前主流的技术路线就是用图形衬底来生长外延,此种技术可以缓解衬底和氮化物外延层异质外延生长中由于品格失配引起的应力,减小GaN基外延层穿透位错的密度,提高外延层晶体质量,降低半导体发光材料的非辐射符合中心,增强辐射符合,以提高芯片亮度。目前这种图形衬底的制作方法是先用光刻胶在蓝宝石衬底上做周期性排列的小图形,再利用ICP(增强耦合等离子体)干法刻蚀技术将此光刻胶图形转移到蓝宝石衬底上,而这种干法刻蚀技术在刻蚀的过程中对衬底的冷却至关重要,否则光刻胶图形会因刻蚀的过程中产生的高温而变形,进而无法保证图形的有效转移。目前ICP刻蚀对衬底的冷却方法是采用铝盘加石英盘,将He直接通入到蓝宝石衬底底部对蓝宝石衬底进行冷却,这种方法能有效的冷却衬底,能保证图形的有效转移,但是这种方法装片时需要很多螺丝钉将石英盘和铝盘固定在一起,在拧螺丝的时候很容易刮伤衬底表面,且大大限制了装片速度和加大作业难度。
因此,制作一种用于辅助固定干法刻蚀工艺中装片的防护盖板很有必要。
实用新型内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型的目的在于提供一种用于辅助固定干法刻蚀工艺中装片装置的防护盖板,以克服现有技术装片过程中容易刮伤衬底表面,而导致大大限制了装片速度和加大作业难度的缺陷。
为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供了一种用于辅助固定干法刻蚀工艺中装片装置的防护盖板,所述的装片装置至少包括固定顶盘、固定底盘、以及位于所述固定顶盘与固定底盘之间的多个半导体片,且所述固定顶盘与固定底盘由多个固定件固定在一起,其特征在于:所述防护盖板上对应用于装设各该固定件的位置开设有多个定位孔。
在本实用新型的防护盖板中,所述防护盖板为透明的塑料板。
在本实用新型的防护盖板中,所述防护盖板的形状为圆盘状。
在本实用新型的防护盖板中,所述定位孔为圆孔。
在本实用新型的防护盖板中,所述固定件为螺栓或螺钉。
需要说明的是,所述定位孔的孔径大于所述螺栓或螺钉的螺帽直径。
在本实用新型的防护盖板中,所述装片装置还包括多个密封圈,分别装设于所述固定底盘与半导体基片之间。
在本实用新型的防护盖板中,所述装片装置还包括多个用以流通冷却气体以冷却所述的半导体基片的冷却通道,所述冷却通道位于两所述固定底盘之间。
在本实用新型的防护盖板中,所述固定底盘为铝盘。
在本实用新型的防护盖板中,所述固定顶盘为石英盘。
在本实用新型的防护盖板中,所述固定顶盘为石英盘。
如上所述,本实用新型的用于辅助固定干法刻蚀工艺中装片装置的防护盖板在透明塑料板上制作具有多个与装片螺丝钉孔对应的定位孔,在装片的过程中覆盖于所述的固定顶盘与所述的半导体基片的垂向区域,以保护半导体基片的表面在装片过程中不被刮伤,并且完成装片过程后可以简单地抽离,从而大大的提高装片速度和产能,有效的降低制造成本。且本实用新型操作方法简单,适用于工业生产过程。
附图说明
图1~图2显示为本实用新型的结构图。
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在不背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。
需要说明的是,本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想,遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制,其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变,且其组件布局型态也可能更为复杂。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造