[实用新型]一种抗静电光学薄膜有效
申请号: | 201120356947.8 | 申请日: | 2011-09-22 |
公开(公告)号: | CN202256726U | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 孙涛;孙琦 | 申请(专利权)人: | 无锡睿涛光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;B32B27/06;B32B27/28;B32B33/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 温子云 |
地址: | 214134 江苏省无锡市新区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抗静电 光学薄膜 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种复合薄膜,尤其涉及一种抗静电光学薄膜。
背景技术
目前,光学薄膜的应用无处不在,从眼镜镀膜到手机,电脑,电视的液晶显示再到LED照明等等,它充斥着我们生活的方方面面,并使我们的生活更加丰富多彩,例如:聚碳酸酯薄膜作为光学薄膜的一种被广泛的应用于LED照明领域,但是在聚碳酸酯薄膜的制造和加工过程中,薄膜上易于附着杂质和尘土,容易放电,而且由于LED是半导体材料,很容易产生感应电荷,静电荷在极短的时间内在LED芯片的两个电极剪放电,造成漏电和短路现象。因此研制一种具抗静电功能的光学薄膜已成为迫在眉睫的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种抗静电光学薄膜,其具有结构简单、成本低,易于安装以及抗静电性能好的特点。
本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现:
一种抗静电光学薄膜,其包括基膜层,所述基膜层包括上、下膜层面,其中,所述上、下膜层面上至少有一面外侧设置抗静电层。
特别地,所述基膜层为聚碳酸酯薄膜;
特别地,所述抗静电层的表面电阻为10^5~10^13欧姆。
特别地,所述基膜层的厚度为0.01mm~10mm。
特别地,所述抗静电层的厚度为0.01mm~1.0mm。
本实用新型的有益效果为,所述抗静电光学薄膜采用至少两层的复合结构, 于基膜层上增设有抗静电层,与现有技术相比,不仅结构简单,成本低;而且抗静电性能好,易于安装。
附图说明
下面根据附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。
图1为本实用新型抗静电光学薄膜一实施例的剖面图;
图2为本实用新型抗静电光学薄膜又一实施例的剖面图。
图中:
1、聚碳酸酯基膜层;2、上膜层面;3、下膜层面;4、抗静电层。
具体实施方式
实施例一:
请参照图1所示,图1为本实用新型抗静电光学薄膜一实施例的剖面图;于本实施例中,提供一种单面设置抗静电层4的光学薄膜,其包括聚碳酸酯基膜层1,所述聚碳酸酯基膜层1的厚度为0.01mm~10mm,所述聚碳酸酯基膜层1包括上膜层面2和下膜层面3,所述上膜层面2的上方设置有一层抗静电层4,所述抗静电层4的厚度为0.01mm~1.0mm,且其表面电阻为10^5~10^13欧姆。
同时抗静电层4也可以设置于下膜层面3的下方。
实施例二:
请参照图2所示,图2为本实用新型抗静电光学薄膜又一实施例的剖面图。于本实施例中,提供一种双面设置抗静电层4的光学薄膜,其包括聚碳酸酯基膜层1,所述聚碳酸酯基膜层1的厚度为0.01mm~10mm,所述聚碳酸酯基膜层1包括上膜层面2和下膜层面3,所述上膜层面2的上方设置有一层抗静电层4,所述下膜层面3的下方也设置有一层抗静电层4,所述抗静电层4的厚度为0.01mm~1.0mm,且其表面电阻为10^5~10^13欧姆。
上述抗静电光学薄膜采用至少两层的复合结构,于基膜层1上增设有抗静电层4,不仅结构简单,成本低;而且抗静电性能好,易于安装。
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