[实用新型]用于流体调节器的阀组件和流体调节器

说明书

相关申请的交叉引用

本专利是美国专利申请序列号12/496,868的部分继续申请，该申请于2009年7月2日提交，标题为“平衡阀套筒”，该申请整体地收编于供参考。 

技术领域

本专利大体上涉及流体调节器，更具体地，涉及用于防止流体调节器中的流体被污染的阀设备。 

背景技术

流体调节器通常分布于过程控制系统，用于控制多种流体(比如液体、气体等)的压强。流体调节器典型用于将流体的压强调节至实质上的常量。特别地，流体调节器具有入口，该入口典型地接收相对而言高压的供应流体，并且该调节器在出口提供一个相对低压并且实质上不变的压强。 

为了调节下游压强，流体调节器通常包括传感元件或隔板，以感应与下游源流体连通的出口压强。阀设备位于流体流动通道内，控制或调节入口和出口间的流体流动。阀设备操作地耦接至传感元件，该传感元件可根据跨传感元件的压强差，使得阀设备在允许流体在入口和出口间流动的开启位置以及防止或限制流体在入口和出口间流动的关闭位置之间移动。 

为了在流体流动通道内耦接阀设备，一些已知的流体调节器使用保持器或其他部件，它们螺纹地耦接至流体调节器主体上的孔。但是，在组装的过程中，这样的螺纹连接可能在阀设备过 滤器的下游形成杂质(比如碎片或污染物)。操作中，高压过程流体可造成杂质流入流体流动通道，污染下游组件或设备。对于高纯度的应用，被污染的流体可能无法被接受。附加地或替代地，杂质可能留置在阀设备的密封表面，当流体调节器处于关闭位置时这可导致不正确的密封和/或损坏阀设备。 

实用新型内容

本实用新型为了解决现有技术中操作中，高压过程流体可造成杂质流入流体流动通道，污染下游组件或设备的问题。 

在一个示例中，阀设备包括外壳，该外壳设置于流体调节器的流体流动通道内，以限定该流体通道的低压侧和该流体通道的高压侧。当该外壳耦接到该流体调节器时，该外壳具有至少部分地限定该流体流动通道的孔。该外壳具有可移动的阀组件，该组件通过非螺纹连接被设置在该孔内且与该流体流动通道的该低压侧流体连通，并且该外壳还包括外部螺纹，以螺纹地耦接该外壳至该流体调节器的开口。密封系统防止杂质在该流体流动通道的该高压侧与该流体流动通道的该低压侧之间流动。 

有利地，该可移动阀组件用于控制在该流体流动通道的该低压侧和该流体流动通道的该高压侧之间的流体流动，其中该可移动阀组件包括位于该外壳的该孔内的阀座、提升头和偏置元件。 

有利地，该阀组件还包含一个抵帽，可移除地耦接至该外壳，以保持该提升头、该阀座和该偏置元件在该外壳的该孔内。 

有利地，该密封系统包括密封件和过滤器，用于俘获在该流体调节器的该开口所限定的入口腔内的杂质。 

有利地，该密封件位于邻近于该外壳的外部、在该外部螺纹和该流体调节器的传感腔之间，以防止杂质通过传感腔在该流体流动通道中流动。 

有利地，该过滤器耦接至该外壳，并设置在该流体流动通道的该高压侧内的该入口和该孔之间，以使得该密封件和该过滤 器在该过滤器上游俘获杂质，以防止该过滤器下游的过程流体的污染。 

有利地，该过滤器设置在该阀座和该抵帽之间，包围该提升头。 

有利地，该密封件包含O型环，设置于相邻于该外部螺纹的末端。 

有利地，该密封系统包含第一O型环，设置于邻近该外部螺纹的一端，和第二O型环，设置于邻近于该外部螺纹的另一端。 

有利地，所述外壳包括圆柱主体，具有外部螺纹，该外部螺纹可移除地耦接该阀组件至该流体调节器，所述孔在该主体的第一端和第二端之间延伸；所述阀组件还包括：阀座，被设置在该孔内以使得该阀座接合该主体的肩部；提升头，被设置在该孔内并且被通过偏置元件偏向该阀座；保持器，被耦接至该主体的该第一端的以将该阀座、该提升头和该偏置元件保持在该孔内；密封件，其设置在该主体的该外部螺纹和该流体调节器的传感腔之间，以防止杂质通过该流体调节器的传感腔在该流体流动通道流中流动。 

有利地，该阀组件还包括耦接至该主体的、在该孔和该流体调节器的入口之间的过滤器，其中，该过滤器和该密封件阻隔该过滤器上游的杂质。 

有利地，该保持器包括帽子，该帽子螺纹地耦接至该主体，其中，该过滤器设置于该阀座和该帽子之间。 

有利地，该密封件包括第一O型环，设置于邻近该外部螺纹的一端，和第二O型环，设置于邻近该外部螺纹的另一端。