[实用新型]小分子水发生器的导流盘有效
申请号: | 201120370221.X | 申请日: | 2011-10-08 |
公开(公告)号: | CN202272763U | 公开(公告)日: | 2012-06-13 |
发明(设计)人: | 张兴海;张代林 | 申请(专利权)人: | 重庆小康工业集团股份有限公司 |
主分类号: | C02F1/48 | 分类号: | C02F1/48 |
代理公司: | 重庆市前沿专利事务所 50211 | 代理人: | 张小晓 |
地址: | 400033 重*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分子 水发 导流 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种导流盘,特别是涉及一种用于小分子水发生器的导流盘。
背景技术
水分子在氢键的作用下,会形成较大的分子团,而较大的分子团不利于人体对水的吸收。水的分子团越小,水的渗透力就越强,更易进入细胞膜,运送养料,带出细胞的垃圾。因此人们致力于通过减小饮用水的分子团而改善人体的健康。
现有技术中,小分子水发生器包括壳体,在壳体内设置多组磁铁,磁铁置于上下两块导流盘之间。导流盘包括一底盘,在底盘上设置若干导流肋,相邻导流肋之间形成导流槽,从而引导水流经磁铁的表面,使磁力线切割水,打断水的氢键,形成小分子水。但是,由于小分子水发生器中的导流盘不能充分利用磁极表面,并且由于导流肋过高,从而只能制得约55Hz的水分子。
因此本领域技术人员致力于开发一种能使水分子团被磁极切割的更小的导流盘。
实用新型内容
有鉴于现有技术的上述缺陷,本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能使水分子团被磁极切割的更小的导流盘。
为实现上述目的,本实用新型提供了一种小分子水发生器的导流盘,包括底盘和导流肋;所述底盘上设置有中心孔;所述导流肋为渐开线形状。
采用上述结构,由于导流肋为渐开线形状,因此相邻导流肋形成的导流槽的各处槽宽基本相等,从而可充分利用磁极表面,使水分子团被切割的更小。
较佳的,所述导流肋以与所述中心孔同心的一虚拟圆为基圆。
较佳的,所述底盘上均布设置有四根所述导流肋。
为延长水在磁极表面的流通路径,各所述第一出水挡块之间位于所述底盘边缘处设置有第二出水挡块。
较佳的,所述第二出水挡块位于所述第一出水挡块一侧的端部朝所述第一出水挡块的方向斜向设置有第三出水挡块。
由于靠磁极表面越近,磁力越强,为使切割水分子团的磁力更大,从而产生更小分子团的水,所述导流肋的高度为2mm。
为使导流槽的流通横截面积与小分子水发生器的进水和出水通道的横截面积相匹配,相邻导流肋之间的距离为4mm。
为加快出水速度,所述中心孔的直径为7mm。
本实用新型的有益效果是:本实用新型可使水分子团被切割的更小,达到小于50Hz、或40Hz甚至30Hz的水平,并且可使小分子水发生器的出水速度更快。
附图说明
图1是本实用新型一具体实施方式的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明:
实施例1:如图1所示,一种小分子水发生器的导流盘,包括底盘1和在底盘1上均布设置的四根导流肋2,底盘1上设置有中心孔3。导流肋2的形状为以与中心孔3同心的一虚拟圆4为基圆的渐开线。
导流肋2的尾端位于底盘1的边缘处设置有第一出水挡块5,各第一出水挡块5之间位于底盘1边缘处设置有第二出水挡块6。第二出水挡块6位于第一出水挡块5一侧的端部,并朝第一出水挡块5的方向斜向设置有第三出水挡块7。
本实施例中作为一较佳的实施方式,相邻导流肋2之间的距离L为4mm,导流肋的高度(图中未示出)为2mm,中心孔3的直径为7mm。
在小分子水发生器中,导流盘分为上导流盘和下导流盘,均采用上述结构。上、下导流盘之间设置磁铁。水从上导流盘的中心孔3中流入,沿相邻导流肋2形成的导流槽流动,被磁力切割,形成小分子水。当水流至第一挡水块5和第三挡水块7时,大部分的水从此处流至下导流盘中。同时,一部分水在第三挡水块7的作用下,继续向前流动至第二挡水块6处,使水进一步被切割,最后流至下导流盘中。
在下导流盘中,水的流动路径与上导流盘中的流动路径正好相反。
由于导流肋为渐开线形状,因此相邻导流肋形成的导流槽的各处槽宽L基本相等,从而可充分利用磁极表面,使水分子团被切割的更小。并且,由于第二挡水块6和第三挡水块7的设置,可进一步延长水的流动路径,使水分子团被切割的更小。本实施例中,可使水分子团的大小达到小于50Hz、或40Hz甚至30Hz的水平。
同时,由于本实施例减小了导流肋的肋高,因此使水流动的过程中,所受的磁力更强,这更有利于水分子团的切割。
另外,由于导流槽的槽宽为4mm,中心孔的直径为7mm,因此使水在小分子水发生器中各处的流通横截面积基本匹配,从而提高了出水的速度。
以上详细描述了本实用新型的较佳具体实施例。应当理解,本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本实用新型的构思作出诸多修改和变化。因此,凡本技术领域中技术人员依本实用新型的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案,皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。
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