[实用新型]抛光液挡板

说明书

技术领域

本实用新型涉及化学机械抛光设备领域，具体而言，涉及一种抛光液挡板。 

背景技术

大规模集成电路生产过程中，对晶片表面上的物质进行去除和平坦化是一道必需且使用频繁的工序。目前，化学机械抛光是最有效的全局平坦化技术。在进行化学机械抛光的过程中，由抛光头和抛光盘等运动部件旋转产生的离心力会将抛光液从抛光垫上甩出。抛光液飞溅到抛光空间的各个部位，难以完全清理。抛光液在抛光空间内结晶出颗粒，即使很微小的颗粒也会成为整个工作环境的污染源，可能会造成晶片表面的划伤，降低晶圆的成品率。 

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。 

为此，本实用新型的一个目的在于提出一种可以阻挡抛光液的抛光液挡板。 

为了实现上述目的，根据本实用新型提出一种抛光液挡板，所述抛光液挡板包括：本体，所述本体为环形，所述本体上间隔开地设有多个容纳槽，其中每个所述容纳槽沿竖直方向延伸且下端敞开。 

根据本实用新型的抛光液挡板通过设置多个沿竖直方向延伸的所述容纳槽，从而可以容纳多个外套筒。在进行化学机械抛光时，所述抛光液挡板可以挡住飞溅出来的抛光液，并可以使抛光液沿所述抛光液挡板的本体的内表面流下以便集中排放，从而不会污染抛光环境。 

另外，根据本实用新型的抛光液挡板可以具有如下附加的技术特征： 

每个所述容纳槽沿所述本体的厚度方向贯通。这样可以更加容易地将多个外套筒分别对应地设在所述多个容纳槽内。 

所述本体的径向截面为圆环形。由于抛光盘可以是圆形，因此径向截面为圆环形的所述本体可以更好地与抛光盘配合，从而可以阻挡尽可能多的抛光液。 

所述多个容纳槽沿所述本体的周向等间距地分布。这样可以使所述本体沿竖直方向移动时受力均匀。 

所述本体的外表面沿竖直方向延伸，所述本体的内表面的上端向上向内延伸。这样在进行化学机械抛光时，飞溅出的抛光液碰撞到所述本体上后，可以通过反射落到所述本体 11或抛光盘上，不会溅到所述本体外，因此所述本体可以阻挡更多的抛光液。 

所述本体包括：多个子挡板，每个所述子挡板为弧形；和多个连接件，一个所述连接件的第一端与一个所述子挡板相连且第二端与另一个所述子挡板相连，其中每个所述连接件上设有所述容纳槽，所述容纳槽位于所述第一端和所述第二端之间。 

由于抛光盘的周围需要安装很多具有特定功能的零部件，因此抛光盘的周围空间非常有限。通过设置可拆分的所述本体，不仅可以更加容易地将所述本体安装在抛光盘周围，而且当所述本体需要维护或更换时，可以先对所述本体进行拆分，再将所述本体的各个部分移走。换言之，可以更加容易地对所述本体进行拆卸。而且，由于抛光液的腐蚀作用，所述本体在使用一段时间后需要进行更换。对于可拆分的所述本体来说，只需要对抛光液腐蚀坏的所述子挡板和/或所述连接件进行更换即可，而不需要对整个所述本体进行更换，从而可以大大地延长所述本体的使用寿命，并进而降低了化学机械抛光的成本。 

每个所述连接件包括：第一和第二侧板，所述第一侧板与一个所述子挡板相连且所述第二侧板与另一个所述子挡板相连；和中间板，所述中间板分别与所述第一侧板和所述第二侧板相连，其中所述中间板上设有所述容纳槽。 

每个所述连接件还包括顶板，所述顶板分别与所述第一侧板的顶端、所述第二侧板的顶端和所述中间板的顶端相连。这样可以使所述连接件更加稳固地与所述子挡板相连。 

所述抛光液挡板还包括多个弧形的集液槽，所述多个集液槽间隔开地设在所述本体的底端，其中每个所述集液槽位于两个所述容纳槽之间。通过设置所述集液槽，可以收集沿所述本体的内表面流下的抛光液，从而集中排放抛光液，进一步减少飞溅的抛光液对抛光环境的污染。 

每个所述集液槽包括：外侧板，所述外侧板为弧形且所述外侧板的形状与所述本体的外表面的形状适配，其中所述外侧板设在所述本体的外表面的底端；内侧板，所述内侧板为弧形且所述内侧板的形状与所述外侧板的形状适配，其中所述内侧板位于所述本体的内侧；和底板，所述底板分别与所述外侧板的底端和所述内侧板的底端相连，其中所述外侧板、所述内侧板与所述底板之间限定有凹槽。通过将所述集液槽的外侧板设在所述本体的外表面的底端、且将所述内侧板设在所述本体的内侧，从而可以使所述本体位于所述外侧板和所述内侧板之间，这样可以将沿所述本体的内表面流下的抛光液全部收集到集液槽内，进一步提高抛光环境的洁净度。