[实用新型]一种旋转靶材的打磨装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及旋转靶材制造设备技术领域，尤其是一种旋转靶材的打磨装置。

背景技术

旋转靶材在完成等离子喷涂后，其外表面需要进行抛光，由于旋转靶材是典型的薄壁、细长、自重大的难加工件，抛光过程中涂层极易开裂，常用的抛光方法有手动抛光和气动抛光，但手动抛光效率低，劳动强度大且抛光不均匀，采用气动抛光，跳动大，容易把涂层过量磨掉或导致涂层厚度不均，因此抛光的效果不理想。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种旋转靶材的打磨装置，打磨均匀、速度快，既降低操作人员的劳动强度又提高产品的抛光质量。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是：一种旋转靶材的打磨装置，包括支架、电机、砂带，支架的一端安装电机，电机的驱动轴上装有主动轮，支架的另一端设有一长条形的通孔，一根固定轴平行于电机驱动轴用螺母固定在所述的长条形的通孔上，固定轴上装有从动轮，砂带装在主动轮和从动轮之间，支架靠近电机一侧的下部枢接在一可沿旋转靶材轴向移动的驱动部件上，支架远离电机的一端枢接一配重机构。

进一步改进，所述支架的中部固定一根平行于电机驱动轴的销轴，销轴上装有张紧轮，张紧轮靠在砂带上，确保主动轮和从动轮能很好带动砂带转动。

优选所述的配重机构包括一枢接于支架的支撑座，支撑座上叠有配重块。

本实用新型由于采用砂带紧贴在旋转靶材的外表面进行打磨抛光，砂带由电机带动匀速转动，旋转靶材在车床带动下与砂带转动方向相反转动，同时砂带在沿旋转靶材轴向移动的驱动部件驱动下沿旋转靶材外表面来回移动，因此对涂层打磨比较均匀，打磨速度较快，既降低操作人员的劳动强度又提高产品的抛光质量。

另一方面，本实用新型支架远离电机的一端枢接一配重机构，通过配重机构调节配重物的重量可以调节砂带施加在旋转靶材外表面的力，既能调节打磨速度也能适应旋转靶材不同镀膜材料层的打磨需要，适用范围较广。

附图说明

图1是本实用新型前视立体图。

图2是本实用新型后视立体图。

具体实施方式

下面结合附图和具体的实施方式对本实用新型作进一步详细说明。

图1、图2所示，一种旋转靶材的打磨装置，包括支架1、电机2、砂带3，支架1的一端安装电机2，电机2的驱动轴上装有主动轮21，支架1的另一端设有一长条形的通孔11，一根固定轴4平行于电机2驱动轴用螺母41固定在所述的长条形的通孔11上，固定轴4上装有从动轮42，砂带3装在主动轮21和从动轮42之间，支架1的中部固定一根平行于电机2驱动轴的销轴5，销轴5上装有张紧轮51，张紧轮51靠在砂带3上，支架1靠近电机2一侧的下部枢接在一可沿旋转靶材10轴向移动的驱动部件6上，支架1远离电机2的一端枢接一配重机构7。

所述的配重机构7包括一枢接于支架的支撑座71，支撑座71上叠有配重块72。

以上仅是本实用新型一个较佳的实施例，本领域的技术人员按权利要求作等同的改变都落入本案的保护范围。