[实用新型]过滤装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体制造领域，尤其涉及一种过滤装置。

背景技术

在半导体制造过程中，绝大部分工艺要使用化学品，而且这些化学品大多都与晶圆直接接触，因此，化学品的品质对工艺起着至关重要的作用，影响晶圆加工质量。

以化学机械研磨(CMP)工艺为例，化学机械研磨工艺中大量使用到各种研磨液(slurry)，若研磨液中含有杂质和大颗粒结晶，这些杂质和大颗粒结晶会在研磨过程中刮伤晶圆表面，从而影响晶圆加工，因此，绝大部分研磨液在进入机台使用之前都要经过过滤处理，以滤除掉研磨液中的杂质和大颗粒结晶。

图1所示为现有技术中用于过滤研磨液的过滤装置，所述过滤装置包括外壳11、过滤芯12、连接部件13、研磨液进口管14和研磨液出口管15，所述外壳11为圆柱形容器，所述过滤芯12设置在所述外壳11内，且与所述外壳11同轴，所述连接部件13设置在所述外壳11内，且位于所述过滤芯12的一端，所述连接部件13与所述过滤芯12连通，所述研磨液进口管14的一端沿外壳11的直径方向从所述外壳11外插入所述外壳11内，所述研磨液出口管15的一端与所述连接部件13连接，所述研磨液出口管15的另一端伸出所述外壳11外，所述研磨液出口管15与所述连接部件13连通。由于所述研磨液进口管14沿所述外壳11的直径方向设置，因此，从所述研磨液进口管14流出的待过滤研磨液沿外壳11的轴线方向流进所述外壳11内，所述外壳11内的待过滤研磨液又沿外壳11的直径方向流进所述过滤芯12内，所述过滤芯12起过滤作用，因此，进入所述过滤芯12的研磨液为经过过滤处理的研磨液，所述过滤芯12内的研磨液再流进所述连接部件13内，由所述研磨液出口管15输送到研磨机台。研磨液在所述过滤装置内的流动方向如图1中的箭头所示。

由于研磨液在外壳11内沿外壳11的轴线方向流动，因此，研磨液在外壳11内的流速很慢，研磨液从外壳11流入过滤芯12要花费较长时间，在这较长的时间里，研磨液中的有效研磨颗粒会相互吸引聚集，形成大颗粒结晶，这些大颗粒结晶将会堵塞过滤装置，影响过滤装置正常工作。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种过滤装置，提高液体流动速率，加快液体过滤，从而有效防止大颗粒结晶的形成。

为了达到上述的目的，本实用新型提供一种过滤装置，包括外壳，设置在所述外壳内的过滤芯和连接部件，液体进口管和液体出口管，所述连接部件与所述过滤芯连接，所述液体出口管的一端与所述连接部件连接，所述液体出口管的另一端伸出所述外壳外，所述外壳为圆柱形容器，所述液体进口管的一端沿外壳横截面的切线方向从所述外壳外插入所述外壳内。

上述过滤装置，其中，所述连接部件的内径大于所述过滤芯的内径。

上述过滤装置，其中，所述过滤芯为圆柱形腔体，所述过滤芯的侧壁为过滤网，所述过滤芯未连接所述连接部件的一端为封闭端，所述过滤芯连接所述连接部件的一端为开口端，所述过滤芯通过该开口端与所述连接部件连通。

上述过滤装置，其中，所述连接部件为圆柱形容器，在所述连接部件远离过滤芯的一端设有内部排气口，所述液体出口管与所述连接部件的侧壁连接。

上述过滤装置，其中，在所述外壳靠近液体进口管的一端设有外部排气口，在所述外壳远离液体进口管的一端设有排液口。

本实用新型的过滤装置将液体进口管沿外壳横截面的切线方向设置，使研磨液绕外壳的轴线呈螺旋状流下来，即研磨液在外壳内是旋转流动的，大大提高了研磨液在外壳内的流动速率，加快了研磨液过滤速度，缩短了过滤时间，能够有效防止大颗粒结晶的形成，降低过滤装置堵塞风险，延长过滤装置的使用时间，从而提高了工作效率。

附图说明

本实用新型的过滤装置由以下的实施例及附图给出。

图1是现有技术的过滤装置的结构示意图。

图2是本实用新型一实施例的过滤装置的结构示意图。

图3是本实用新型一实施例的过滤装置的俯视图。

图4是本实用新型一实施例中研磨液在外壳内流动的示意图。

具体实施方式

以下将结合图2～图4对本实用新型的过滤装置作进一步的详细描述。

仍以用于过滤研磨液的过滤装置为例：

参见图2和图3，本实施例的过滤装置包括外壳210、过滤芯220、连接部件230、液体进口管240和液体出口管250；

所述外壳210设有外部排气口211和排液口212；