[实用新型]数码转印膜结构有效
| 申请号： | 201120379109.2 | 申请日： | 2011-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN202264513U | 公开（公告）日： | 2012-06-06 |
| 发明（设计）人： | 刘丽华 | 申请（专利权）人： | 刘丽华 |
| 主分类号： | B41M5/44 | 分类号： | B41M5/44;B44C1/165 |
| 代理公司： | 深圳市国科知识产权代理事务所(普通合伙) 44296 | 代理人： | 陈永辉 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 数码 膜结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种数码转印膜结构，其特征在于，它包括：
一保护层，所述保护层具有一粗糙的下表面；
一透明膜，所述透明膜设置于保护层的下表面；
一离型层，所述离型层设置于透明膜的下表面；
一印刷层，所述印刷层设置于离型层的下表面；
一粘接层，所述粘接层设置于印刷层的下表面。
2.根据权利要求1所述的数码转印膜结构，其特征在于：所述保护层为合成树脂制成的黑色薄膜。
3.根据权利要求1所述的数码转印膜结构，其特征在于：所述透明膜为合成树脂制成的透明薄膜。
4.根据权利要求1所述的数码转印膜结构，其特征在于：所述离型层为合成树脂材料制成。
5.根据权利要求1所述的数码转印膜结构，其特征在于：所述印刷层为合成树脂材料制成。
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