[实用新型]二级反渗透与电化去离子配合应用水处理系统有效
申请号: | 201120379160.3 | 申请日: | 2011-09-29 |
公开(公告)号: | CN202246310U | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 蒋建伟 | 申请(专利权)人: | 南京奥特净化工程有限公司 |
主分类号: | C02F9/06 | 分类号: | C02F9/06;C02F1/469;C02F1/44 |
代理公司: | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人: | 任立;姚姣阳 |
地址: | 211100 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 二级 反渗透 电化 离子 配合 应用 水处理 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种水处理系统,具体的说是一种二级反渗透与电化去离子配合应用水处理系统。
背景技术
在水质要求较高的水处理工艺中,普遍采用二级反渗透(RO)系统及电化去离子(EDI)系统作为主要除盐设备,而这样的设计一般还需要有其他辅助设备,工艺流程为:二级RO系统-RO水箱-EDI送水泵-UV杀菌机-精密过滤器-EDI系统;其中RO水箱是作为储存二级RO产品用水,EDI送水泵用于EDI系统的供水及增压,UV杀菌机则是用于杀死水箱中的储存水可能滋长的细菌,而精密过滤器则是用于过滤水中杀死的细菌及水箱中水可能被污染而出现的颗粒物。这样的流程设计完全可以满足系统的设计要求,但是设备投资成本高,运行成本高。因为过滤芯、杀菌机灯管作为消耗品需经常更换,送水泵也将消耗电力,同时后段EDI系统也将承受进水二次污染可能造成的风险。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是,克服现有技术的缺点,提出一种二级反渗透与电化去离子配合应用水处理系统,在确保水处理系统工艺流程合理的情况下,大大节约了投资成本及运行成本,同时也避免了后段EDI系统进水二次污染的可能。
本实用新型解决以上技术问题的技术方案是:
二级反渗透与电化去离子配合应用水处理系统,包括中间水箱、二级反渗透装置、电化去离子装置和纯水箱,中间水箱的进水接一级反渗透装置的出水,中间水箱的出水接二级反渗透装置的进水,二级反渗透装置的出水接电化去离子装置的进水,电化去离子装置的出水接纯水箱。
由此可见,本实用新型取消RO储水箱,这样就可以避免因储存水而产生的细菌滋长及二次污染,同样EDI送水泵、杀菌机、精密过滤器也全部省掉,工艺流程更改为:二级RO系统—EDI系统;这样二级RO产品水就直接进入到了后段的EDI系统,精简了工艺流程,降低了投资、运行成本。
本实用新型进一步限定的技术方案是:
前述的二级反渗透与电化去离子配合应用水处理系统,中间水箱的出水通过高压泵接二级反渗透装置的进水。在二级反渗透装置的进水设有高压泵,适当加大二级RO进水高压泵扬程,使其出水压力达到EDI装置进水要求。
前述的二级反渗透与电化去离子配合应用水处理系统,二级反渗透装置的出水管上设有压力保护开关。在二级反渗透装置的出水加装压力保护开关,以防止二级RO产水造成背压。
前述的二级反渗透与电化去离子配合应用水处理系统,电化去离子装置的回流接至中间水箱的进水。
本实用新型的有益效果是:本实用新型取消RO储水箱,EDI送水泵、杀菌机、精密过滤器也全部省掉,工艺流程更改为:二级RO系统—EDI系统,既降低了投资成本,又节约了运行成本,使得水处理系统设计工艺流程更简洁、合理,同时又减少了因为储存而导致的初级纯水二次污染问题。
附图说明
图1是本实用新型的连接示意图。
具体实施方式
实施例1
本实施例是一种二级反渗透与电化去离子配合应用水处理系统,连接如图1所示,包括中间水箱1、二级反渗透装置2、电化去离子装置3和纯水箱4,中间水箱1的进水接一级反渗透装置的出水,中间水箱1的出水接二级反渗透装置2的进水,二级反渗透装置2的出水接电化去离子装置3的进水,电化去离子装置3的出水接纯水箱4。中间水箱1的出水通过高压泵5接二级反渗透装置2的进水,在二级反渗透装置2的进水设有高压泵5,适当加大二级RO进水高压泵扬程,使其出水压力达到EDI装置进水要求。二级反渗透装置2的出水管上设有压力保护开关6,在二级反渗透装置的出水加装压力保护开关,以防止二级RO产水造成背压。电化去离子装置3的回流接至中间水箱1的进水。
本实用新型取消RO储水箱,这样就可以避免因储存水而产生的细菌滋长及二次污染,同样EDI送水泵、杀菌机、精密过滤器也全部省掉,工艺流程更改为:二级RO系统—EDI系统,这样二级RO产品水就直接进入到了后段的EDI系统,既降低了投资成本,又节约了运行成本,使得水处理系统设计工艺流程更简洁、合理,同时又减少了因为储存而导致的初级纯水二次污染问题。
除上述实施例外,本实用新型还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案,均落在本实用新型要求的保护范围。
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