[实用新型]光刻胶涂布机承载系统及具有该系统的光刻胶涂布机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种光刻胶涂布机承载系统，更具体地说，涉及一种使用真空泵浦抽气的光刻胶涂布机承载系统及相应的光刻胶涂布机。

背景技术

TFT-LCD(薄膜场效应晶体管-液晶显示器)在生产过程中经常会有光斑MURA(玻璃基板上光刻胶颜色不均匀的现象)的产生，CF(Color Filter：彩色滤光片)工艺中光刻胶涂布机为主要的生产机台，光刻胶涂布机在工作的过程中由于使用真空泵浦抽气容易在玻璃基板表面产生光斑，其中由于真空泵浦产生的气泡造成的光斑最为严重。

真空泵浦产生的气泡造成光斑的原因为光刻胶内含有颜料、溶剂以及粘接剂等，玻璃基板经过喷嘴涂布光刻胶后，呈现不稳定的状态。在真空泵浦抽气的过程中，光刻胶涂布机内的容纳空间通过真空泵浦抽气的动作形成负压，玻璃基板上的光刻胶内的溶剂会被形成的负压气流带走，负压形成瞬间的气流强弱，往往是真空泵浦造成光斑的关键。

如图1所示，光刻胶涂布机包括泵100、抽气阀190、支撑针120、承载托盘130、顶板140以及底板150，使用时，将顶板140打开，将带涂布光刻胶的玻璃基板110放置在支撑针120上，然后再将顶板140和底板150闭合形成一个容纳空间，当要抽气时，将抽气阀190打开，泵100就会对容纳空间进行抽气操作。现在一般采用垫高块160来垫高玻璃基板110以减小玻璃基板110和顶板140之间的距离，进而减小负压气流来减弱或消除光斑的产生。但是使用垫高块160具有以下几个缺陷：

1、必须将光刻胶涂布机完全停止工作后才可进行垫高作业；

2、操作人员必须进入光刻胶涂布机内的容纳空间内进行垫高作业，这时会将操作人员身上的灰尘颗粒带入到机台内部，导致产品良率受到影响；

3、在垫高作业的过程中，操作人员可能会将支撑玻璃基板110的支撑针120移动出原来的位置，这样在光刻胶涂于玻璃基板110上后，玻璃基板110被支撑针120支撑的位置的受力发生改变，玻璃基板110上的光刻胶受到泵100抽取时，玻璃基板110的变形导致玻璃基板110上光刻胶内溶剂被负压带走的不均一，则易产生光斑；

4、操作人员无法通过垫高块准确设置玻璃基板110与顶板140之间的距离。

故，有必要提供一种光刻胶涂布机承载系统及相应的光刻胶涂布机，以解决现有技术所存在的问题。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术的光刻胶涂布机承载系统及相应的光刻胶涂布机易产生光斑且处理方法复杂、准确度低的缺陷，提供一种通过调整机构自动调整玻璃基板与顶板之间的距离以减弱或消除真空泵浦造成光斑的光刻胶涂布机承载系统及相应的光刻胶涂布机，本光刻胶涂布机承载系统及相应的光刻胶涂布机操作简单，调整精度高。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种光刻胶涂布机承载系统，其中包括承载托盘以及用于自动调整所述承载托盘高度的调整机构，所述调整机构与所述承载托盘连接。

在本实用新型所述的光刻胶涂布机承载系统中，所述调整机构包括伺服电机、丝杆以及连接件，所述丝杆的一端与所述伺服电机连接，所述丝杆的另一端通过所述连接件与所述承载托盘连接。

在本实用新型所述的光刻胶涂布机承载系统中，所述光刻胶涂布机承载系统还包括用于控制所述伺服电机输出的控制模块，所述控制模块与所述伺服电机连接。

在本实用新型所述的光刻胶涂布机承载系统中，所述伺服电机包括用于将所述伺服电机的输出反馈给所述控制模块的反馈单元，所述反馈单元与所述控制模块连接。

在本实用新型所述的光刻胶涂布机承载系统中，所述伺服电机为有刷电机或无刷电机；所述伺服电机为交流电机或直流电机。

本实用新型还涉及一种光刻胶涂布机，包括由顶板和底板组成的容纳空间以及设置在所述容纳空间内的支撑针以及承载托盘，所述支撑针设置于所述承载托盘上，其中所述光刻胶涂布机还包括设置在所述容纳空间内用于自动调整所述承载托盘高度的调整机构；所述调整机构与所述承载托盘连接。

在本实用新型所述的光刻胶涂布机中，所述调整机构包括伺服电机、丝杆以及连接件，所述丝杆的一端与所述伺服电机连接，所述丝杆的另一端通过所述连接件与所述承载托盘连接。

在本实用新型所述的光刻胶涂布机中，所述光刻胶涂布机还包括用于控制所述伺服电机输出的控制模块，所述控制模块与所述伺服电机连接。