[实用新型]一种密封装置有效
申请号: | 201120395156.6 | 申请日: | 2011-10-17 |
公开(公告)号: | CN202266673U | 公开(公告)日: | 2012-06-06 |
发明(设计)人: | 裴希存;魏永辉;刘天明;姜振;侯军 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | F16J15/06 | 分类号: | F16J15/06 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 李娟 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 密封 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及密封技术领域,尤其是一种密封装置。
背景技术
常见的密封装置由两个半腔体对接形成,对接面上具有密封圈,密封圈靠弹性勒在其中一个半腔体对接面上的沟槽中实现固定,例如在液晶屏生产过程中加工玻璃基板所使用的密封装置,如图1、图2所示,两个半腔体分别为上定盘和下定盘,其中下定盘固定不动,密封圈3’固定在下定盘2’的沟槽中,玻璃基板放入下定盘2’的腔体中,上定盘1’盖到下定盘上2’并压紧后,设备内部可以抽成真空,依靠中间的密封圈3’保持腔体内部的真空状态,上定盘1’抬起后,可以移除腔体内的玻璃基板。
本申请发明人发现,在生产中很容易发生上定盘1’抬起时带起密封圈3’,从而脱离下定盘2’沟槽的情况,在生产下一张玻璃基板的时候造成腔体密封不严,造成漏气,无法在腔体中形成良好的真空状态,无法使玻璃基本完全贴合,影响了玻璃基板的生产效率,其他有类似应用场景的密封装置也存在这样的问题。
实用新型内容
为改进现有技术中存在的问题,本实用新型提出一种密封装置,用以改进密封圈固定不牢固的问题。
本实用新型提出的密封装置,包括对接后形成密封空腔的至少两个半腔,还包括:在至少一个半腔的对接面上锁定有至少一个密封圈。
本实用新型提出的密封装置,通过至少一个锁定在两个半腔对接面上的密封圈,就可以实现对密封空腔的密封作用,同时还有效的保证了在两个半腔分离时被锁定的密封圈不脱落。
所述两个半腔的其中一个为下定盘,另一个为与所述下定盘实现分离和对接的上定盘。
通过上定盘的移动,与固定不动的下定盘接触,从而实现密封空腔的密封和开启。
所述上定盘和/或下定盘上设有用于使密封圈的一部分陷入并卡接在其中的凹槽。
此种设计是通过在上定盘和/或下定盘上设置凹槽来对密封圈进行卡接锁定,将密封圈卡在凹槽内,从而避免在上定盘移开时造成密封圈的脱落。
所述凹槽的至少一侧的槽口边沿设有向槽口中心凸出的凸起棱,所述密封圈上设有与所述凸起棱对应的棱槽。
通过在凹槽的槽口设置的凸起棱和密封圈上设置的棱槽的配合,可以使密封圈的一部分结构被限制在凹槽内,相当于从两侧夹住一部分密封圈实现锁定。
所述凹槽的至少一侧的槽口边沿设有向槽口中心凸出的凸锥,所述密封圈上设有与所述凸锥对应的锥槽。
此种结构是通过凸锥和密封圈上的锥槽配合实现对密封圈的锁定。
所述上定盘和下定盘上分别锁定有至少一个所述密封圈。
在上定盘和下定盘上同时设置有密封圈,目的是起到更好的密封作用。
所述上定盘上锁定的密封圈与所述下定盘上锁定的密封圈的周相大小相等且位置相对,用于在所述上定盘和下定盘合并时使相对的密封圈相互接触并实现密封。
此种设计是通过相对且等大的一对密封圈的相互接触实现对真空腔体的密封。
所述上定盘上锁定的密封圈在所述上定盘与下定盘合并时,位于下定盘上锁定的密封圈密封范围的外侧或者内侧。
此种设计是通过两层密封圈实现对真空腔体的双重密封。
本实用新型提出的密封装置,通过将密封圈锁定在两个半腔的对接面上,可以有效避免密封圈在两个半腔分离时脱落,从而保障了对真空环境要求较高的应用场景,特别是在玻璃基板贴合过程中,避免了因漏气造成的贴合失败,提高了玻璃基板的生产效率。
附图说明
为清楚描述本实用新型及其有益效果,结合以下附图对实施例的进行详细描述,其中:
图1是现有技术中密封圈与下定盘连接的立体结构示意图;
图2是现有技术中密封圈与下定盘的连接结构示意图;
图3A是本实用新型提供的第一种密封圈与下定盘的连接结构示意图;
图3B是图3A的A处结构的放大示意图;
图4A是本实用新型提供的第二种密封圈与下定盘的连接结构示意图;
图4B是图4A的A处结构的放大示意图;
图5是本实用新型提供的第三种密封圈与上定盘和下定盘的连接结构示意图;
图6是本实用新型提供的第四种密封圈与上定盘和下定盘的连接结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本实用新型,而不能解释为对本实用新型的限制。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120395156.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。