[实用新型]氧化锌薄膜沉积设备有效
申请号: | 201120400506.3 | 申请日: | 2011-10-20 |
公开(公告)号: | CN202359197U | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 李一成;赵函一;许国青 | 申请(专利权)人: | 理想能源设备(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/40 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化锌 薄膜 沉积 设备 | ||
1.一种氧化锌薄膜沉积设备,包含:沉积腔(21),在所述沉积腔(21)内设置的喷淋头(22)和基板支承座(23);所述喷淋头(22)设置在所述沉积腔(21)的顶部,并与所述沉积腔(21)的顶板之间形成有气体混合区(25);所述基板支承座(23)设置在所述沉积腔(21)的底部,其包含加热单元,所述加热单元用于将基板(24)的温度加热到大于160°C小于等于200°C;所述基板支承座(23)与所述喷淋头(22)之间形成反应区(26),所述基板支承座(23)与所述喷淋头(22)面向所述基板支承座(23)的底面之间的距离大于等于80mm小于等于110mm;节流阀,用于控制流入所述气体混合区(25)的反应气体流量大于等于4200sccm小于等于7000sccm;排气装置,用于从所述反应区(26)抽出气体,以控制所述反应区(26)的气压大于等于0.3mbar小于等于0.8mbar;
其特征在于,所述喷淋头上设置有若干气体分配孔(221),所述若干气体分配孔(221)使得所述气体混合区(25)的气压大于等于0.9mbar小于等于1.3mbar。
2.如权利要求1所述氧化锌薄膜沉积设备,其特征在于,所述气体分配孔(221)的数量为大于等于1600个小于等于2200个,每一个气体分配孔(221)孔径最小部分的孔径大于等于1.0mm小于等于2.0mm。
3.如权利要求1或2所述氧化锌薄膜沉积设备,其特征在于,所述气体分配孔(221)包含:从喷淋头(22)背离所述基板支承座(23)的顶面向下延伸一定距离形成的上端孔(222);从喷淋头(22)面向所述基板支承座(23)的底面向上延伸一定距离形成的下端孔(223),以及,所述上端孔(222)和下端孔(223)之间过渡连接的斜面(224);其中所述上端孔(222)的孔径(D1)大于所述下端孔(223)的孔径(D2)。
4.如权利要求3所述氧化锌薄膜沉积设备,其特征在于,所述下端孔(223)的宽高比为大于等于1/4小于等于2/3。
5.如权利要求3所述氧化锌薄膜沉积设备,其特征在于,所述上端孔(222)的孔径(D1)为大于等于1.5mm小于等于4mm。
6.如权利要求3所述氧化锌薄膜沉积设备,其特征在于,所述气体分配孔(221)中斜面(224)的母线相对所述喷淋头(22)底面的夹角(a)大于等于35度小于等于65度。
7.如权利要求1所述氧化锌薄膜沉积设备,其特征在于,所述基板支承座(23)与所述喷淋头(22)面向所述基板支承座(23)的底面之间的距离大于等于90mm小于等于100mm。
8.如权利要求7所述氧化锌薄膜沉积设备,其特征在于,所述基板支承座(23)与所述喷淋头(22)面向所述基板支承座(23)的底面之间的距离为96mm。
9.如权利要求1所述氧化锌薄膜沉积设备,其特征在于,所述喷淋头(22)包含一个冷却装置,所述冷却装置使得该喷淋头(22)的温度低于60°C。
10.如权利要求1所述氧化锌薄膜沉积设备,其特征在于,所述加热单元用于将基板(24)的温度加热到大于175°C小于等于185°C。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的