[实用新型]真空镀膜装置

权利要求书

1.一种真空镀膜装置，包括真空镀膜室(1)、承载架(2)及镀膜源(3)，所述真空镀膜室(1)的顶部设有旋转马达，承载架(2)与旋转马达相连，并悬挂在真空镀膜室(1)的中央位置；所述镀膜源(3)设置在镀膜室的底部；其特征在于：所述承载架(2)上连接设有至少两个行星工件盘(5)；还包括一修正板(4)，该修正板(4)固设于镀膜源(3)和行星工件盘(5)的之间。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述至少两个的行星工件盘(5)绕真空镀膜室(1)的周向上均布。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述每个行星工件盘(5)设有至少三个的待镀元件装夹位(6)。

4.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述真空镀膜室(1)的底部固设一支撑杆(7)，该支撑杆(7)的顶部与修正板(4)固定连接。

5.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述修正板(4)为弧形。