[实用新型]一种砷化铝镓管芯结构有效
申请号: | 201120420720.5 | 申请日: | 2011-10-29 |
公开(公告)号: | CN202259399U | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 李玉芝;吉爱华;祝菡菡 | 申请(专利权)人: | 潍坊广生新能源有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02 |
代理公司: | 潍坊正信专利事务所 37216 | 代理人: | 张曰俊 |
地址: | 261061 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 砷化铝镓 管芯 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及半导体光电子技术领域,具体地说,涉及一种砷化铝镓管芯结构。
背景技术
砷化铝镓(AlGaAs )LED具有寿命长、稳定性好、节能环保等优点,被广泛应用于户内外显示屏、城市亮化、信号灯等领域。
现有技术中常规的砷化铝镓LED管芯结构如图1所示,包括外延层和GaAs基底, GaAs基底的底面设有N型电极,外延层由上至下依次为P型GaP层、P型砷化铝镓层、发光层、N型砷化铝镓层和DBR反射层,P型电极设置在P型GaP层上。由于使用的是热导率较差的GaAs基底,在大电流、高输出功率工作条件下,GaAs基底的LED芯片有很大的局限性。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是:针对上述问题提供一种能适应大电流、高输出功率的砷化铝镓管芯结构。
为解决上述技术问题,本实用新型的一种技术方案是:一种砷化铝镓管芯结构,包括基底和通过金属反射及粘结层固定在所述基底上的外延层;所述外延层包括由上至下依次设置的N型砷化铝镓层 、发光层、P型砷化铝镓层和P型GaP层,所述N型砷化铝镓层上设置有N型电极;所述基底为导电Si基底,所述导电Si基底的底面设置有P型电极。
为解决上述技术问题,本实用新型的另一种技术方案是:一种砷化铝镓管芯结构,包括基底和通过金属反射及粘结层固定在所述基底上的外延层;所述外延层包括由上至下依次设置的N型砷化铝镓层 、发光层、P型砷化铝镓层和P型GaP层,所述N型砷化铝镓层上设置有N型电极;所述基底为绝缘Si基底,所述绝缘Si基底、金属反射及粘结层的尺寸均大于所述外延层的尺寸,所述金属反射及粘结层上设置有P型电极。
由于采用了上述技术方案,本实用新型的有益效果是:由于本实用新型的砷化铝镓管芯结构与现有的砷化铝镓LED芯片的外延层结构自上至下正好相反,且采用导电Si基底或者绝缘Si基底替代现有技术中的GaAs基底,由于Si材料的热导率高,是GaAs材料的10倍,因此可大幅度改善产品的高温特性,以适应大电流、高输出功率的工作条件,提高产品的可靠性。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明:
图1是现有技术的砷化铝镓LED管芯结构示意图;
图2是本实用新型实施例一的结构示意图;
图3是本实用新型实施例二的结构示意图;
图4是本实用新型实施例制作过程中外延层的结构示意图;
图5是本实用新型实施例中Si基底、金属反射及粘结层制作示意图;
图6是本实用新型实施例中Si基底与外延层粘接示意图;
图7是将图6中的GaAs基底腐蚀剥离后的示意图;
图8是本实用新型实施例二中将GaAs基底腐蚀剥离后的示意图;
图中:1- P型电极;2-P型GaP层;3- P型砷化铝镓层;4-发光层;5-N型砷化铝镓层;6-DBR反射层;7-GaAs基底;8-N型电极;9-外延层;10-金属反射及粘结层;11-导电Si基底;12-绝缘Si基底。
具体实施方式
如图1所示,为现有技术中常规的砷化铝镓LED管芯结构,包括外延层9和GaAs基底7, GaAs基底7的底面设有N型电极8,外延层9由上至下依次为P型GaP层2、P型砷化铝镓层3、发光层4、N型砷化铝镓层5和DBR反射层6, P型电极1设置在P型GaP层2上。
实施例一
如图2所示,一种砷化铝镓管芯结构,包括基底和通过金属反射及粘结层10固定在所述基底上的外延层9;所述外延层9包括由上至下依次设置的N型砷化铝镓层5 、发光层4、P型砷化铝镓层3 和P型GaP层2,所述N型砷化铝镓层5上设置有N型电极8;其中,所述基底为导电Si基底11,所述导电Si基底11的底面设置有P型电极1。
以导电Si为基底的本实施例的砷化铝镓管芯结构制作工艺步骤如下:
1. 如图4所示,首先在GaAs基底7上生长外延结构,按常规由下至上依次外延生长N型砷化铝镓层 5、发光层4、P型砷化铝镓层 3 和P型GaP层 2,制成外延层9。
2. 如图5所示,在2英寸的导电Si基底11上蒸镀金属反射及粘结层10,该金属反射及粘结层10包括一层粘接层及一个金属反射镜,该金属反射镜可以反射一部分光,提高透光率。
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