[实用新型]采用环形电子束激发激光光源的投影系统有效
申请号: | 201120424486.3 | 申请日: | 2011-10-31 |
公开(公告)号: | CN202339469U | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 赵健;钟伟杰;张学渊;夏忠平 | 申请(专利权)人: | 上海显恒光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G02B27/10;G02B27/48;H01S5/40;H01S5/04 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 何新平 |
地址: | 200233 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 采用 环形 电子束 激发 激光 光源 投影 系统 | ||
1.采用环形电子束激发激光光源的投影系统,包括光源系统、光学棱镜、投影光学系统,其特征在于,所述光源系统包括三个用于产生激光的激光装置,三个所述激光装置产生的激光光源颜色分别为三原色中的一种,三个所述激光装置产生的激光分别通过光学棱镜形成一束三色合成光;
所述激光装置包括一真空管,所述真空管的一端设有一半导体芯片,所述真空管的另一端设有电子枪,所述电子枪采用一环形电子枪,所述环形电子枪的前方设有一聚焦偏转系统,所述聚焦偏转系统的前方设有所述半导体芯片,所述半导体芯片的反射面朝向所述环形电子枪;
所述环形电子枪包括一阴极,所述阴极呈环状,所述阴极的中部为激光透光区域;所述真空管上设有一激光出射口,所述激光出射口位于所述激光透光区域的后方。
2.根据权利要求1所述的采用环形电子束激发激光光源的投影系统,其特征在于:还包括一散热系统,所述散热系统的热交换机构设置在所述半导体芯片的背部。
3.根据权利要求1所述的采用环形电子束激发激光光源的投影系统,其特征在于:所述聚焦偏转系统采用一复合磁聚焦偏转系统。
4.根据权利要求3所述的采用环形电子束激发激光光源的投影系统,其特征在于:所述复合磁聚焦偏转系统包括一设置在所述电子枪前方的阴极透镜聚焦系统和设置在所述阴极透镜聚焦系统前方的聚焦偏转系统。
5.根据权利要求3所述的采用环形电子束激发激光光源的投影系统,其特征在于:所述阴极中间的激光透光区域采用蓝宝石玻璃。
6.根据权利要求1所述的采用环形电子束激发激光光源的投影系统,其特征在于:所述真空管的长度与所述激光透光区域的半径之间的关系如下:
其中,L为所述真空管的长度;θ为激光发散角度;s为所述半导体芯片的直径;r为所述激光透光区域的半径。
7.根据权利要求1至6中任意一项所述的采用环形电子束激发激光光源的投影系统,其特征在于:所述半导体芯片采用一激光面板,所述激光面板包括至少两个激光腔,至少两个所述激光腔沿厚度方向排列;所述激光腔包括一增益介质层、反射层,所述反射层分别设置在所述增益介质层的前方和后方。
8.根据权利要求7所述的采用环形电子束激发激光光源的投影系统,其特征在于:所述激光腔包括部分反射层和完全反射层,所述部分反射层设置在所述增益介质层的前方,所述完全反射层设置在所述增益介质层的后方。
9.根据权利要求1所述的采用环形电子束激发激光光源的投影系统,其特征在于:所述光学棱镜采用一X棱镜,三个所述激光装置产生的激光分别通过所述X棱镜的合色形成三色合成光。
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