[实用新型]一种改善硅片表面刻蚀水膜的装置有效
| 申请号： | 201120431268.2 | 申请日： | 2011-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN202323030U | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 张恒;徐照;刘凯;罗存义;李富强;匡成国;徐涛;李质磊;盛雯婷;张凤鸣 | 申请（专利权）人： | 天威新能源控股有限公司;保定天威集团有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;C30B33/10;H01L31/18 |
| 代理公司： | 成都高远知识产权代理事务所(普通合伙) 51222 | 代理人： | 李高峡 |
| 地址： | 610200 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 改善 硅片 表面 刻蚀 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种改善硅片表面刻蚀水膜的装置，硅片(2)在若干滚轮(3)支承下移动，滚轮上方有喷淋管(1)，其特征在于：滚轮(3)中有高位滚轮(4)，高位滚轮(4)对硅片(2)的支承点高于前后滚轮(3)的支承点。
2.根据权利要求1所述的改善硅片表面刻蚀水膜的装置，其特征在于：所述高位滚轮(4)与前后滚轮(3)的高度差小于或等于10mm。
3.根据权利要求1所述的改善硅片表面刻蚀水膜的装置，其特征在于：所述喷淋管(1)位于高位滚轮(4)上方。
4.根据权利要求1所述的改善硅片表面刻蚀水膜的装置，其特征在于：所述高位滚轮(4)的直径大于前后滚轮(3)。
5.根据权利要求1所述的改善硅片表面刻蚀水膜的装置，其特征在于：所述高位滚轮(4)是在滚轮(3)上加装橡胶圈。
6.根据权利要求1所述的改善硅片表面刻蚀水膜的装置，其特征在于：所述高位滚轮(4)是安装位置高于前后滚轮(3)。
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