[实用新型]一种体发射线圈有效
申请号: | 201120435342.8 | 申请日: | 2011-11-07 |
公开(公告)号: | CN202330681U | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 许启林;吴尚桐;张锐 | 申请(专利权)人: | 上海联影医疗科技有限公司 |
主分类号: | G01R33/20 | 分类号: | G01R33/20 |
代理公司: | 上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙) 31257 | 代理人: | 董红曼 |
地址: | 201821 上海市嘉定区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 发射 线圈 | ||
1.一种体发射线圈,其特征在于,包括:设置在所述体发射线圈的两端的金属环,设置在所述金属环之间、连接所述金属环的多根金属腿,以及在形成所述金属环和/或所述金属腿上的高介电常数金属夹层。
2.如权利要求1所述体发射线圈,其特征在于,所述高介电常数金属夹层包括:两个金属层,以及夹在两个金属层之间的高介电常数介质。
3.如权利要求1所述体发射线圈,其特征在于,所述金属腿相互平行。
4.如权利要求1所述体发射线圈,其特征在于,当所述体发射线圈为高通型体发射线圈时,所述高介电常数金属夹层形成在所述两端金属环上,且位于每两个所述金属腿之间。
5.如权利要求1所述体发射线圈,其特征在于,当所述体发射线圈为低通型体发射线圈时,所述高介电常数金属夹层形成在每条所述金属腿上。
6.如权利要求1所述体发射线圈,其特征在于,当所述体发射线圈为高低通混合型体发射线圈时,所述高介电常数金属夹层形成在所述金属环与金属腿上。
7.如权利要求1所述体发射线圈,其特征在于,所述金属腿的数量为两个或两个以上。
8.如权利要求2所述体发射线圈,其特征在于,所述高介电常数介质为陶瓷,所述高介电常数金属夹层为陶瓷金属夹层。
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