[实用新型]光电池生产中清洗废物体系和腐蚀废物体系的处理装置以及废物体系的综合处理装置

权利要求书

1.一种光电池生产中清洗废物体系的处理装置，所述清洗废物体系通过清洗已腐蚀硅片而产生，其特征在于，所述处理装置包括：

用于分离废物体系中的固态杂质的分离设备；和

与所述分离设备流体相通的电渗析设备。

2.权利要求1所述的处理装置，其特征在于，还包括反渗透设备，所述反渗透设备与所述电渗析设备流体相通以对经所述电渗析设备纯化的水体系进一步纯化。

3.权利要求2所述的处理装置，其特征在于，还包括分别与所述分离设备、所述电渗析设备和所述反渗透设备流体相通的中间水箱；其中所述分离设备和所述反渗透设备经由所述中间水箱与所述电渗析设备流体相通。

4.权利要求1所述的处理装置，其特征在于，还包括用于对已腐蚀硅片进行清洗的清洗设备，所述清洗设备与所述分离设备流体相通以向所述分离设备输送废物体系并与所述电渗析设备流体相通以接收处理后的水。

5.权利要求2或3所述的处理装置，其特征在于，还包括用于对已腐蚀硅片进行清洗的清洗设备，所述清洗设备与所述分离设备流体相通以向所述分离设备输送废物体系并与所述反渗透设备流体相通以接收处理后的水。

6.权利要求5所述的处理装置，其特征在于，所述反渗透设备通过设置其上的淡水出口与所述清洗设备流体相通。

7.权利要求3中所述的处理装置，其特征在于，所述中间水箱由浓水箱和淡水箱组成，浓水箱和淡水箱之间设置有供液体从所述淡水箱流向所述浓水箱的单向溢流口。 

8.权利要求1所述的处理装置，其特征在于，所述电渗析设备包括依次排列的第一电渗析单元、第二电渗析单元及第三电渗析单元，每一电渗析单元包括一个浓水室和一个淡水室，其中第三电渗析单元的浓水室与第二电渗析单元的浓水室流体相通，第二电渗析单元的浓水室与第一电渗析单元的淡水室流体相通，第一电渗析单元的淡水室与第二电渗析单元的淡水室流体相通，第二电渗析单元的淡水室与第三电渗析单元的淡水室流体相通。

9.一种光电池生产中清洗废物体系的处理装置，所述清洗废物体系通过清洗已腐蚀硅片而产生，其特征在于，所述处理装置包括：

用于分离废物体系中的固态杂质的分离设备；和

与所述分离设备流体相通的反渗透设备。

10.权利要求9所述的处理装置，其特征在于，还包括电渗析设备，所述电渗析设备与所述反渗透设备流体相通以对经所述反渗透设备纯化的水体系进一步纯化。

11.权利要求10所述的处理装置，其特征在于，所述电渗析设备包括依次排列的第一电渗析单元、第二电渗析单元及第三电渗析单元，每一电渗析单元包括一个浓水室和一个淡水室，其中第三电渗析单元的浓水室与第二电渗析单元的浓水室流体相通，第二电渗析单元的浓水室与第一电渗析单元的淡水室流体相通，第一电渗析单元的淡水室与第二电渗析单元的淡水室流体相通，第二电渗析单元的淡水室与第三电渗析单元的淡水室流体相通。

12.一种光电池生产中废物体系的综合处理装置，其特征在于，包括：

用于进行硅片腐蚀的腐蚀设备；用于进行硅片水清洗的清洗设备；分别与所述腐蚀设备流体相通的第一分离设备和电渗析设备；分别与所述清洗设备流体相通的第二分离设备和反渗透设备；

其中所述第一分离设备、第二分离设备、所述反渗透设备还与所述电渗析设备流体相通。

13.权利要求12所述的综合处理装置，其特征在于，还包括分别与所 述第二分离设备、所述电渗析设备和所述反渗透设备流体相通的中间水箱，所述中间水箱由淡水箱和浓水箱组成；其中所述第二分离设备和所述反渗透设备经由所述中间水箱与所述电渗析设备流体相通。

14.权利要求12或13所述的综合处理装置，其特征在于，还包括与所述腐蚀设备流体相通的气体回收设备。

15.权利要求14所述的综合处理装置，其特征在于，还包括冷凝设备和储存设备，其中所述腐蚀设备经由所述冷凝设备与所述气体回收设备流体相通；所述储存设备与所述冷凝设备流体相通用于接收来自冷凝设备中的液体并与所述腐蚀设备流体相通。