[实用新型]纳米标准器有效
| 申请号： | 201120460406.X | 申请日： | 2011-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN202329466U | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 傅志强;贺翠翠;郭俊诚;赵江勇;朱锦波;刘锡贝 | 申请（专利权）人： | 天津出入境检验检疫局化矿金属材料检测中心 |
| 主分类号： | G01B5/00 | 分类号： | G01B5/00 |
| 代理公司： | 天津中环专利商标代理有限公司 12105 | 代理人： | 王凤英 |
| 地址： | 300456*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米 标准 | ||
【权利要求书】：
1.一种纳米标准器，其特征在于：包括圆形基底（1），在圆形基底（1）上表面中心位置刻有十字线（2），在由十字线（2）分成的四个象限中分别刻有不同图案的标准刻度（3），在标准刻度（3）的外围刻有定位圆环（4），在对应定位圆环（4）的上、下、左和右方向分别刻有水平双定位线（5）和垂直双定位线（6），在水平双定位线（5）和垂直双定位线（6）中分别刻有数字标记。
2.如权利要求1所述的纳米标准器，其特征在于：所述不同图案的标准刻度（3）包括横线标准刻度（3-1）、竖线标准刻度（3-2）、点阵标准刻度（3-3）和圆环标准刻度（3-4），且分别分布在每个象限中。
3.如权利要求1所述的纳米标准器，其特征在于：所述圆形基底（1）采用表面镀有Cr膜的石英材料制成。
4.如权利要求2所述的纳米标准器，其特征在于：所述横线标准刻度（3-1）、竖线标准刻度（3-2）、点阵标准刻度（3-3）和圆环标准刻度（3-4）的刻线周期为10～20个，其中横线标准刻度（3-1）和竖线标准刻度（3-2）最小周期间距为78纳米、点阵标准刻度（3-3）最小周期间距为100纳米，圆环标准刻度（3-4）最小周期间距为92纳米。
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