[实用新型]用于离子源的加热装置有效

专利信息
申请号: 201120467555.9 申请日: 2011-11-22
公开(公告)号: CN202332785U 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 潘翔;段姝敏;章凯 申请(专利权)人: 江苏天瑞仪器股份有限公司
主分类号: H01J49/10 分类号: H01J49/10
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 贾玉姣
地址: 215300 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 离子源 加热 装置
【权利要求书】:

1.一种用于离子源的加热装置,其特征在于,包括:

本体,所述本体内限定出圆柱形的加热腔室,所述本体的第一端具有加热端头,所述加热端头的第一侧表面上形成有环形的第一气体通道和与所述第一气体通道连通的气体入口,所述本体的第二端设有适于与温控开关相连的端口;

陶瓷件,所述陶瓷件包括主体段和连接在所述主体段的第二侧的陶瓷端头,所述主体段间隙配合在所述加热腔室内且所述陶瓷端头的第二侧表面抵住所述加热端头的第一侧表面,所述主体段与所述本体之间限定出环形的第二气体通道,其中,

所述第二气体通道和所述第一气体通道通过形成在所述加热端头的第一侧表面的多个气体缺口相连通。

2.根据权利要求1所述的用于离子源的加热装置,其特征在于,所述第一气体通道为形成在所述加热端头的第一侧表面上的环形的槽。

3.根据权利要求2所述的用于离子源的加热装置,其特征在于,所述槽为弧形槽。

4.根据权利要求2所述的用于离子源的加热装置,其特征在于,所述槽为方形槽。

5.根据权利要求1所述的用于离子源的加热装置,其特征在于,所述气体缺口为三个或多于三个。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的用于离子源的加热装置,其特征在于,进一步包括:

密封圈,所述密封圈设在所述陶瓷端头的第二侧表面与所述加热端头的第一侧表面之间以保证气密性。

7.根据权利要求6所述的用于离子源的加热装置,其特征在于,进一步包括:入口气管,所述入口气管与所述气体入口相连以向所述气体入口内供入需被加热的气体。

8.根据权利要求7所述的用于离子源的加热装置,其特征在于,所述入口气管为金属气管且焊接在所述加热端头的气体入口处。

9.根据权利要求1所述的用于离子源的加热装置,其特征在于,在所述本体的外侧形成有螺旋形的路径槽。

10.根据权利要求9所述的用于离子源的加热装置,其特征在于,所述路径槽为方形槽。

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