[实用新型]PVC无缝镭射膜有效
| 申请号： | 201120468339.6 | 申请日： | 2011-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN202357535U | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 林加宝;沈五展;林武城 | 申请（专利权）人： | 福建泰兴特纸有限公司 |
| 主分类号： | B32B15/04 | 分类号： | B32B15/04;B32B15/20;B32B23/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362400 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | pvc 无缝 镭射 | ||
【权利要求书】：
1.一种PVC无缝镭射膜，包括三层结构，其特征在于：依次为基膜层、镭射层和镀铝层；所述的基膜层为PVC（聚氯乙烯），厚度为35～50μm，所述的镭射层为硝基纤维素，厚度为1.0～1.2μm，所述的镀铝层为纯铝，厚度为0.04～0.05μm。
2.根据权利要求1所述的PVC无缝镭射膜，其特征在于：所述的PVC为软质或硬质基膜层。
3.根据权利要求1所述的PVC无缝镭射膜，其特征在于：所述的基膜层为硬质PVC，厚度为35μm，镭射层厚度为1.2μm，镀铝层厚度为0.05μm。
4.根据权利要求1所述的PVC无缝镭射膜，其特征在于：所述的基膜层为软质PVC，厚度为50μm，镭射层厚度为1.0μm，镀铝层厚度为0.04μm。
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