[实用新型]一种模仁潜伏式浇口的定位加工装置及定位加工结构

权利要求书

1.一种模仁潜伏式浇口的定位加工装置，其特征是：所述的定位加工装置包括基准块、正弦磁力台和靠块，靠块固定安装在正弦磁力台上，基准块固定安装在正弦磁力台上，且对应于靠块安装。

2.一种利用如权利要求1所述的模仁潜伏式浇口的定位加工装置的定位加工结构，其特征是：所述的定位加工结构为将模仁放置在正弦磁力台上，且紧靠靠块设置，模仁的基准点紧靠基准块的基准点设置，模仁上的潜伏式浇口处插装有潜伏式浇口电极。

3.根据权利要求2所述的定位加工结构，其特征是：所述的基准块上的基准点设置在基准块的一个角上。

4.根据权利要求3所述的定位加工结构，其特征是：所述的基准块上的基准点设置在基准块上基准块与靠块和正弦磁力台相交的角上。

5.根据权利要求2或3或4所述的定位加工结构，其特征是：所述的基准块为长方体。

6.根据权利要求5所述的定位加工结构，其特征是：所述的基准块为50×50×50mm的正方体。