[实用新型]平行曝光机的反光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种反光装置，尤其涉及一种平行曝光机的反光装置。

背景技术

曝光机即电子束曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光，受电子束辐照后的光刻胶，其物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从而在抗蚀剂上形成精细图形。

反光装置是平行曝光机的一个主要部件，目前在曝光机椭形反光罩的设计上，都是采用反光罩罩口朝上的安装方式，如图1和图2所示，平行曝光机的反光装置一般包括灯管1和灯罩2，其中，所述灯罩2为椭圆球灯罩，采用向下安装方式。冷风从进风口5处进来，沿着灯罩2向上从出风口6出去。为了加强散热效果，灯罩固定套3上设有散热孔4。现有反光装置主要有如下不足点：1)不利于灯罩内UV介质膜的冷却；2)不利于灯罩的自身清洁；3)不利于冷罩壳体的热量散发。因此，有必要对现有的平行曝光机的反光装置进行改进。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种平行曝光机的反光装置，便于灯罩内UV介质膜散热和冷却，且不增加生产成本。

本实用新型为解决上述技术问题而采用的技术方案是提供一种平行曝光机的反光装置，包括灯管和灯罩，其中，所述灯罩为椭圆球灯罩，所述椭圆球灯罩的罩口向下，顶部设有散热孔。

上述的平行曝光机的反光装置，其中，所述反光装置包括导流片，所述导流片对称设置于灯管的两侧，固定在灯罩固定套上。

上述的平行曝光机的反光装置，其中，所述灯罩固定套的进风口处设有进风机，出风口处设有抽风机。

上述的平行曝光机的反光装置，其中，所述灯罩内侧覆盖有UV介质膜。

本实用新型对比现有技术有如下的有益效果：本实用新型提供的平行曝光机的反光装置，采用椭圆球灯罩，并采用向下安装的方式，从而便于灯罩内UV介质膜散热和冷却，且不增加生产成本。

附图说明

图1为现有平行曝光机的反光装置结构及散热效果示意图；

图2为沿图1中A-A线的剖面示意图；

图3为本实用新型平行曝光机的反光装置结构示意图。

图中：

1灯管      2灯罩      3灯罩固定套

4散热孔    5进风口    6出风口

7导流片    8进风机    9抽风机

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的描述。

图3为本实用新型平行曝光机的反光装置结构示意图。

请参见图3，本实用新型提供的平行曝光机的反光装置包括灯管1和灯罩2，其中，所述灯罩2为椭圆球灯罩，所述椭圆球灯罩的罩口向下，顶部设有散热孔4。

本实用新型提供的平行曝光机的反光装置，反光装置还进一步包括导流片7，所述导流片7优选对称设置于灯管1的两侧。所述导流片7倾斜成75°固定在灯罩固定套3上，所述灯罩固定套3的进风口5处设有进风机8，出风口6处设有抽风机9，以便进一步提高散热效果。

为了避免不当光线泄漏造成产品品质不良，所述灯罩2内侧可进一步覆盖UV介质膜(紫外线介质膜，即UltraViolet)。UV介质膜是将特殊配方涂料涂布于PET薄膜基材表面，以达到阻隔紫外光及短波长可见光之效果。适用于光学蚀刻制程或制程中需隔绝UV之产业如半导体业、电子业等。

虽然本实用新型已以较佳实施例揭示如上，然其并非用以限定本实用新型，任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作些许的修改和完善，因此本实用新型的保护范围当以权利要求书所界定的为准。