[实用新型]表面处理设备有效
申请号: | 201120486406.7 | 申请日: | 2011-11-29 |
公开(公告)号: | CN202423235U | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
发明(设计)人: | 黄庭辉 | 申请(专利权)人: | 豪客能源科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 设备 | ||
技术领域
本实用新型与表面处理的技术领域有关,特别是有关于一种基板的表面处理设备。
背景技术
一般而言,基板的化学处理流程先经过浸渍流程(dipping process),将整片基板浸泡在化学液内,再通过旋干机(spin dryer)以旋转(spin)的方式将基板旋干,之后再进入高温炉(Oven)进行烘干。
然而,基板浸泡在化学液中,容易在基板表面形成一化学薄膜(如Na2S薄膜),且须要长时间的浸泡;再者,高温炉的烘干温度必须至少大于100℃,基于安全的考量,甚是非常不理想的。
再者,一般液晶面板厂为了基板强力干燥所使用的气体喷嘴(风刀,Air Knife),其出口压力约在10kgf/cm2以上,压力甚大,容易造成未干燥的液膜分布不均。
发明内容
本实用新型的主要目的,在于解决上述的问题而提供一种表面处理设备,系使化学液在基板表面形成类似抹布擦拭的效果,在极短的时间内以擦拭的方式对基板表面进行化学处理,以对基板局部面积进行化学处理。
本实用新型的另一目的,在于提供一种表面处理设备,基于安全及干燥效果的考量,热干气体可控制在90℃以下。
为达前述的目的,本实用新型提供一种表面处理设备,设置在一基板的一传输装置周围,该基板置放在该传输装置朝一预定传输方向传送,该预定传输方向与该传输装置的一轴向方向平行,该表面处理设备包括:
一第一液体喷嘴,可调整角度地设置在该传输装置的上方,且该第一液体喷嘴的轴向方向与该传输装置的轴向方向垂直;
一第二液体喷嘴,可调整角度地设置在该传输装置上方并朝该预定传输方向与该第一液体喷嘴间隔一第一预定距离,且该第二液体喷嘴的轴向方向与该传输装置的轴向方向垂直,该第一液体喷嘴及该第二液体喷嘴相互面对地倾斜一第一角度;
一第一液位挡板,设置在该传输装置的其中一侧且与该传输装置相互间隔一空隙,并位于该第一液体喷嘴与该第二液体喷嘴间隔的该第一预定距离内;以及
一第二液位挡板,设置在该传输装置远离该第一液位挡板的一侧且与该传输装置相互间隔该空隙,并位于该第一液体喷嘴与该第二液体喷嘴间隔的该第一预定距离内。
所述的表面处理设备,其中,该第一液体喷嘴及该第二液体喷嘴用以喷洒出化学液。
所述的表面处理设备,其中,该第一液体喷嘴及该第二液体喷嘴呈刀型。
所述的表面处理设备,其中,更包括一第三液体喷嘴,设置在该传输装置下方,且该第三液体喷嘴与该第二液体喷嘴朝该预定传输方向间隔一第二预定距离,而第三液体喷嘴朝与该预定传输方向的相反方向面对该传输装置而倾斜一第二角度。
所述的表面处理设备,其中,该第三液体喷嘴用以喷洒出纯水。
所述的表面处理设备,其中,更包括一第一气体喷嘴及一第二气体喷嘴,该第一气体喷嘴设置在该传输装置上方,且与该第三液体喷嘴朝该预定传输方向间隔一第三预定距离,该第二气体喷嘴设置在该传输装置下方并相对应该第一气体喷嘴设置,且该第一气体喷嘴与该第二气体喷嘴朝与该预定传输方向的相反方向面对该传输装置而倾斜一第三角度。
所述的表面处理设备,其中,更包括至少一第三气体喷嘴及至少一第四气体喷嘴,该第三气体喷嘴与该第一气体喷嘴间隔一第四预定距离并设置在该传输装置上方,该第四气体喷嘴与该第二气体喷嘴间隔该第四预定距离并设置在该传输装置下方,且与该第三气体喷嘴相对应设置,且该第三气体喷嘴与该第四气体喷嘴朝与该预定传输方向的相反方向面对该传输装置而倾斜一第四角度。
所述的表面处理设备,其中,该至少一第三气体喷嘴为多个第三气体喷嘴,并朝该预定传输方向而相互间隔设置,该至少一第四气体喷嘴为多个第四气体喷嘴,并朝该预定传输方向而相互间隔设置,该多个第三气体喷嘴的数量相对应该多个第四气体喷嘴的数量。
所述的表面处理设备,其中,该化学液为Na2S、NaF或NaOH。
本实用新型的上述及其他目的与优点,不难从下述所选用实施例的详细说明与附图中,获得深入了解。
当然,本实用新型在某些零件上,或零件的安排上容许有所不同,但所选用的实施例,则于本说明书中,予以详细说明,并于附图中展示其构造。
附图说明
图1表示本实用新型表面处理设备的结构示意图;
图2表示本实用新型表面处理设备的作动示意图;
图3表示本实用新型表面处理设备的侧视示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于豪客能源科技股份有限公司,未经豪客能源科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120486406.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:远红外电热空调基片裁切模具
- 下一篇:一种滤芯自动切割装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造