[实用新型]线栅偏振片有效
申请号: | 201120495136.6 | 申请日: | 2011-12-02 |
公开(公告)号: | CN202433544U | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 田中裕二;横山宏 | 申请(专利权)人: | 旭化成电子材料株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 侯莉 |
地址: | 日本国东京都千代*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏振 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种能够理想使用于液晶显示器等的线栅偏振片。
背景技术
由于近年来的光刻技术的发达,能够形成具有光的波长级别的间距的微细结构图案。具有这样非常小的间距的图案的构件、制品不仅在半导体领域,在光学领域其利用范围也比较广,是非常有用的。
例如,由金属等构成的导电体线以特定的间距排列成格子状从而构成线栅,如果其间距是比入射光小得多的间距(例如二分之一以下),则几乎使相对于导电体线平行振动的电场矢量成分的光全部反射,几乎使相对于导电体线垂直的电场矢量成分的光全部透过,因此能够作为发出单一偏振光的偏振片使用。线栅偏振片由于能够反射未透过的光并对其进行再利用,因此从光的有効利用的观点考虑,在显示器的光源装置等的用途上是非常理想的。
近年来,正在进行开发具有周期非常狭窄的格子状凹凸结构的玻璃基板的线栅偏振片。
例如,在专利文献1中公开了以下内容:使透明介电体的膜堆积在透明玻璃基板的表面上,接下来,使用全息干涉光刻在光致抗蚀剂上形成微细的格子结构,接下来,通过离子束刻蚀或反应刻蚀将该结构转印到金属膜上,在所述基板上形成平行的栅导电元件的阵列,其后,将该栅导电元件作为掩模对基板进行刻蚀,由此来制作支持导电元件的、具有周期非常狭窄的周期性的格子状凹凸结构的肋。但是,在玻璃基板应用半导体工艺的制造方法具有缺乏生产率这样的缺点。又,玻璃基板的线栅偏振片具有厚度大、重、容易破裂这样的使用上的缺点。
专利文献2中提出了以下这样的方法,即,在厚度100μm的PC(聚碳酸酯)膜基板上,通过UV纳米压印技术,采用光固化性树脂(东洋合成公司制、型号PAK01)形成树脂覆膜来制造线栅偏振片的方法,但是采用专利文献2所揭示的方法的话,就具有以下的问题:由于光固化性树脂的粘度高,紧贴压模时光固化性树脂的树脂厚度容易变得不均匀,在纳米压印工序产生许多缺陷,而且还会做出在透过率、偏振性能上面内偏差或批次间偏差大的制品。而且,包含PC等的树脂膜基材的线栅偏振片还具有膜基材由于热、湿度、光等的影响而发生分解、变形、或变色这样的使用上的问题。
专利文献3中提出了一种线栅偏振片,其包含:树脂基材、形成在所述基材上的厚度为0.01μm至20μm的范围的树脂覆膜、和形成在所述树脂覆膜上的金属线,将耐久性优异的TAC膜或COP膜作为基材,将向这些基材的浸透性高的光固化性树脂作为树脂覆膜的原料,使得基材和树脂覆膜坚固地粘结,由此提供一种在高温高湿下的劣化小的线栅偏振片。并且,这样的线栅偏振片,与专利文献2相同地包含树脂膜基材包覆的情况下,膜基材的特性由于热、湿度、光等的影响而发生分解、变形或变色这样的问题无法避免。又,在移动电话等薄型液晶用途上,要求有厚度极其薄的偏振片,但是也存在膜基材的厚度决定了线栅偏振片的厚度的下限的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特表2003-502708号公报
专利文献2:日本专利特开2008-145581号公报
专利文献3:日本专利特开2010-151850号公报
实用新型内容
实用新型要解决的课题
本实用新型的目的在于提供一种与上述那样的以往的线栅偏振片相比,在光学性能方面、低缺陷方面都良好、且能够分离基材和树脂覆膜的加工性可靠性优良的线栅偏振片。
解决课题的手段
本实用新型者进行了研究,结果发现在特定的基材上形成特定的树脂覆膜,在该树脂覆膜上形成金属线而构成的线栅偏振片改善了上述那样的纳米压印工序中的问题,还能够在维持所述金属线的结构的状态下从线栅偏振片分离基材和覆膜,能够以稳定的品质制造极其薄、大面积且加工性优良、可靠性优良的线栅偏振片,从而达成了本实用新型。
即,本实用新型如下所述。
1、一种线栅偏振片,其包含有基材、形成在所述基材上的树脂覆膜,和形成在所述树脂覆膜上的金属线,其特征在于,所述线栅偏振片能够在维持所述金属线的结构的状态下从该线栅偏振片分离所述基材。
2、如1所述的线栅偏振片,其特征在于,所述树脂覆膜为0.005μm至3μm的厚度,所述基材与所述树脂覆膜的剥离力为5N/25mm以下。
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