[实用新型]可防止晶圆过反应的反应装置有效

专利信息
申请号: 201120513869.8 申请日: 2011-12-09
公开(公告)号: CN202373562U 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 杨勇;杜亮;赖力彰 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L21/306 分类号: H01L21/306
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 可防止 反应 装置
【权利要求书】:

1.一种可防止晶圆过反应的反应装置,包括反应槽和补水管,所述反应槽通过连接管路和厂务排放系统连接,所述补水管伸入所述反应槽内部,其特征在于,还包括缓冲罐、排放管和真空泵,所述缓冲罐设置于所述反应槽的下方,所述反应槽的底部开设一个排放口,所述排放管的一端接所述反应槽的排放口,所述排放管的另一端接所述缓冲罐,所述真空泵设置于所述缓冲罐和所述厂务排放系统的连接管路上。

2.根据权利要求1所述的可防止晶圆过反应的反应装置,其特征在于,所述排放口是圆形的,所述排放管和所述排放口的形状和大小相匹配。

3.根据权利要求1所述的可防止晶圆过反应的反应装置,其特征在于,所述排放管的直径大于或等于10mm。

4.根据权利要求1所述的可防止晶圆过反应的反应装置,其特征在于,所述缓冲罐的容积大于或等于所述反应槽的容积的2倍。

5.根据权利要求1所述的可防止晶圆过反应的反应装置,其特征在于,所述反应槽包括内槽和外槽,所述外槽并排设置于所述内槽的外侧,所述外槽的底部比所述内槽的底部高。

6.根据权利要求5所述的可防止晶圆过反应的反应装置,其特征在于,所述排放口设置于所述内槽的底部,所述补水管伸入所述内槽的内部,所述内槽和所述外槽分别通过管路与所述厂务排放系统连接。

7.根据权利要求6所述的可防止晶圆过反应的反应装置,其特征在于,所述内槽和所述外槽与所述厂务排放系统连接的管路上分别设有控制阀。

8.根据权利要求5所述的可防止晶圆过反应的反应装置,其特征在于,所述可防止晶圆过反应的反应装置还包括过滤器、加热器与加压泵,所述过滤器、加热器与加压泵依次设置于所述内槽和所述外槽之间的连接管路上。

9.根据权利要求1所述的可防止晶圆过反应的反应装置,其特征在于,所述补水管和所述排放管上分别设有控制阀。

10.根据权利要求1~9中任意一项所述的可防止晶圆过反应的反应装置,其特征在于,所述补水管至少有两根。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120513869.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top